[发明专利]飞机研制数据处理方法、装置、设备以及存储介质

权利要求书

1.一种飞机研制数据处理方法，其特征在于，所述方法包括：

获取飞机研制图数据，并确定至少一个研制点、各所述研制点所属的研制阶段和所述研制点的度数；

根据所述研制点所属的研制阶段，确定所述研制点所在层；

根据所述研制点的度数，确定所述研制点所在的同轴圆以及同轴圆的半径；

根据各所述研制点所在层、所在同轴圆和所述同轴圆的半径，在三维空间中绘制各所述研制点对应的坐标点。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述根据所述研制点的度数，确定所述研制点所在的同轴圆以及同轴圆的半径，包括：

根据各所述研制点的所在层，获取属于同一层的研制点；

在属于同一目标层的研制点中，根据各所述研制点的度数，确定度数的类型数量，并作为同轴圆数量；

根据所述同轴圆数量，确定所述目标层中同轴圆的半径。

3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述根据所述同轴圆数量，确定所述目标层中同轴圆的半径，包括：

获取最大展示半径；

根据所述最大展示半径，确定所述目标层中最大同轴圆的半径；

对所述同轴圆数量进行减1，确定缩小半径数量；

对所述最大同轴圆的半径进行缩小，得到所述缩小半径数量的半径；

将所述最大同轴圆的半径和所述缩小半径数量的半径，确定为所述目标层中同轴圆的半径。

4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述根据各所述研制点的所在层、所在同轴圆和所述同轴圆的半径，在三维空间中绘制各所述研制点对应的坐标点，包括：

获取最大展示高度；

根据各所述研制点的所在层和所述最大展示高度，确定各所述研制点的高度；

根据各所述研制点的所在同轴圆和所述同轴圆的半径，确定各所述研制点的平面坐标；

根据各所述研制点的高度和各所述研制点的平面坐标，确定各所述研制点对应的坐标点；

在三维空间中，绘制各所述研制点对应的坐标点。

5.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，所述根据各所述研制点的所在层和所述最大展示高度，确定各所述研制点的高度，包括：

对各所述研制点的所在层进行统计，得到目标层数；

根据所述目标层数对所述最大展示高度进行划分，确定相邻层的高度差；

根据所述相邻层的高度差，确定各所述研制点的所在层的层中心点高度；

根据所述研制点所在层的层中心点高度，确定所述研制点的高度。

6.根据权利要求5所述的方法，其特征在于，所述根据所述研制点所在层的层中心点高度，确定所述研制点的高度，包括：

将所述研制点所在层的层中心点高度，确定为所述研制点的高度；或者

在属于同一目标层的研制点中，根据各所述研制点的度数，和所述目标层的层中心点高度，确定各所述研制点的高度。

7.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，在确定至少一个研制点、各所述研制点所属的研制阶段和所述研制点的度数的同时，还包括：

根据所述飞机研制图数据，确定各所述研制点之间的关系；

根据各所述研制点之间的关系，在所述三维空间中绘制各所述研制点之间的连线。

8.一种飞机研制数据处理装置，其特征在于，包括：

图数据获取模块，用于获取飞机研制图数据，并确定至少一个研制点、各所述研制点所属的研制阶段和所述研制点的度数；

研制点所在层确定模块，用于根据所述研制点所属的研制阶段，确定所述研制点所在层；

同轴圆及其半径确定模块，用于根据所述研制点的度数，确定所述研制点所在的同轴圆以及同轴圆的半径；

坐标点绘制模块，用于根据各所述研制点所在层、所在同轴圆和所述同轴圆的半径，在三维空间中绘制各所述研制点对应的坐标点。