[发明专利]屏蔽系数的确定方法、装置、存储介质和电子设备

权利要求书

1.一种屏蔽系数的确定方法，其特征在于，所述方法包括：

获取废物容器中的屏蔽介质的线性衰减系数；所述线性衰减系数是通过预设线性衰减系数和所述屏蔽介质的密度确定的系数；所述废物容器中包括所述屏蔽介质和放射性核素；所述屏蔽介质用于吸收所述放射性核素发出的射线；

根据热点和所述废物容器的半径确定所述屏蔽介质的厚度；所述热点表征所述放射性核素在所述废物容器中的位置；

根据所述线性衰减系数和所述厚度确定所述屏蔽系数。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述根据热点和所述废物容器的半径确定所述屏蔽介质的厚度，包括：

获取所述热点和所述废物容器的轴心的平行距离，以及所述废物容器的所述半径；

根据所述平行距离和所述半径确定所述屏蔽介质的所述厚度。

3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述根据所述平行距离和所述半径确定所述屏蔽介质的所述厚度，包括：

将所述平行距离与预设比例的乘积，作为目标距离；

将所述半径和所述目标距离的差值作为所述屏蔽介质的所述厚度。

4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述屏蔽介质的所述密度通过以下方式获得：

根据所述屏蔽介质的质量和所述废物容器的体积确定所述屏蔽介质的所述密度。

5.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，所述根据所述屏蔽介质的质量和所述废物容器的体积确定所述屏蔽介质的所述密度，包括：

获取所述废物容器的总质量和所述废物容器的空桶质量；

根据所述总质量和所述空桶质量得到所述屏蔽介质的所述质量；

根据所述质量和所述体积确定所述屏蔽介质的所述密度。

6.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述根据所述线性衰减系数和所述屏蔽介质的所述厚度确定所述屏蔽系数，包括：

根据所述线性衰减系数和所述屏蔽介质的所述厚度通过目标函数确定所述屏蔽系数。

7.根据权利要求1-6任一项所述的方法，其特征在于，所述预设线性衰减系数包括水的所述线性衰减系数。

8.一种屏蔽系数的确定装置，其特征在于，包括：

获取模块，用于获取废物容器中的屏蔽介质的线性衰减系数；所述线性衰减系数是通过预设线性衰减系数和所述屏蔽介质的密度确定的系数；所述废物容器中包括所述屏蔽介质和放射性核素；所述屏蔽介质用于吸收所述放射性核素发出的射线；

第一确定模块，用于根据热点和所述废物容器的半径确定所述屏蔽介质的厚度；所述热点表征所述放射性核素在所述废物容器中的位置；

第二确定模块，用于根据所述线性衰减系数和所述厚度确定所述屏蔽系数。

9.一种非临时性计算机可读存储介质，其上存储有计算机程序，其特征在于，该程序被处理器执行时实现权利要求1-7中任一项所述方法的步骤。

10.一种电子设备，其特征在于，包括：

存储器，其上存储有计算机程序；

处理器，用于执行所述存储器中的所述计算机程序，以实现权利要求1-7中任一项所述方法的步骤。