[发明专利]一种涂层隔膜及其制备方法和二次电池

权利要求书

1.一种涂层隔膜，其特征在于，包括基膜和设置于基膜至少一侧面的多边形阵列式涂层，所述多边形阵列式涂层包括若干多边形结构，所述多边形结构包括凸起的边框和漏空部，所述边框围绕漏空部形成所述多边形结构，若干个所述多边形结构呈阵列式放置。

2.根据权利要求1所述的涂层隔膜，其特征在于，所述多边形结构为三角形结构、菱形结构或矩形结构中的一种。

3.根据权利要求1所述的涂层隔膜，其特征在于，所述基膜的材质包括聚丙烯、聚乙烯、无纺布、聚酰亚胺、纤维素中的一种或两种以上。

4.根据权利要求1所述的涂层隔膜，其特征在于，所述多边形阵列式涂层包括氧化铝、勃姆石、氧化镁、二氧化硅、蒙脱石中的一种或多种混合。

5.根据权利要求1所述的涂层隔膜，其特征在于，所述凸起的边框占涂层隔膜的占比为20％～80％。

6.根据权利要求1所述的涂层隔膜，其特征在于，所述多边形阵列式涂层的厚度为1～6μm。

7.一种如权利要求1～6中任一项所述的涂层隔膜的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

步骤S1、将增稠剂加入陶瓷粉料中混合搅拌，加入溶剂搅拌得到第一粘液；

步骤S2、将第一粘液研磨得到第二粘液；

步骤S3、将剩余溶剂加入第二粘液中进行第一次搅拌，加入粘结剂进行第二次搅拌，加入表面活性剂进行第三次搅拌得到陶瓷浆料；

步骤S4、将陶瓷浆料通过多边形凹版辊涂覆在基膜的表面，干燥形成多边形阵列式涂层，制得涂层隔膜。

8.根据权利要求7所述的涂层隔膜的制备方法，其特征在于，所述步骤S4中凹版辊涂的转动方向与基膜的走带方向相同。

9.根据权利要求7所述的涂层隔膜的制备方法，其特征在于，所述步骤S3中第一次搅拌的转速为100～300rpm，搅拌时间为50～80min；第二次搅拌的转速为100～300rpm，搅拌时间为50～80min；第三次搅拌的转速为100～300rpm，搅拌时间为50～80min。

10.一种二次电池，其特征在于，包括权利要求1～6中任一项所述的涂层隔膜。