[发明专利]叠置误差的校正方法

权利要求书

1.一种叠置误差的校正方法，包括：

根据一晶圆的一下层图案和一上层图案得到一叠置误差，其中该下层图案由该晶圆经过的一第一制造设备获得，而该上层图案由一曝光设备获得；

根据该叠置误差和在该第一制造设备之后、该曝光设备之前对该晶圆执行的一工艺，产生一校正叠置误差；以及

根据该校正叠置误差调整该曝光设备。

2.如权利要求1所述的校正方法，其中该下层图案包括多个第一次图案和多个第二次图案，并且该多个第一次图案中的每一个的轮廓与该多个第二次图案中的每一个的轮廓不同。

3.如权利要求2所述的校正方法，其中产生该校正叠置误差包括：

将多个校正参数分为一第一组校正参数和一第二组校正参数；

分别从该多个第一次图案中获得该第一组校正参数的一第一对应数据，和从该多个第二次图案中获得该第二组校正参数的一第二对应数据；以及

根据该叠置误差、该第一对应数据和该第二对应数据，产生该校正叠置误差。

4.如权利要求3所述的校正方法，还包括：

从该多个第二次图案中获得该第一组校正参数的一第三对应数据，和从该多个第二次图案中获得该第二组校正参数的一第四对应数据；以及

选择该第一对应数据和该第二对应的数据，以确定该校正叠置误差。

5.如权利要求2所述的校正方法，其中该多个第二次图案的间距与该多个第一次图案的间距不同。

6.如权利要求2所述的校正方法，其中在一平视图中，该多个第二次图案中的每一个沿不同于该第一方向和该第二方向的一第三方向延伸。

7.如权利要求2所述的校正方法，其中该多个第二次图案中的每一个包括沿该第一方向排列的多个片段。

8.如权利要求2所述的校正方法，其中在一平视图中，该多个第二次图案中的每一个的尺寸与该多个第一次图案中的每一个的尺寸不同。

9.如权利要求2所述的校正方法，其中该多个第二次图案的数量与该多个第一次图案的数量不同。

10.如权利要求1所述的校正方法，其中该工艺包括一蚀刻工艺、一沉积工艺和一化学机械研磨工艺中的至少一个。

11.如权利要求1所述的校正方法，其中调整该曝光设备包括调整该曝光设备的一掩模的位置。

12.一种叠置误差的校正方法，包括：

接收具有基底的一晶圆；

在该晶圆的基底上形成一第一图案；

形成一中间结构以覆盖该第一图案；

通过一曝光设备，在该中间结构上形成一第二图案；

根据该晶圆的第一图案和第二图案得到一叠置误差；

根据该叠置误差，产生一校正叠置误差；以及

根据该校正叠置误差调整该曝光设备。

13.如权利要求12所述的校正方法，其中形成该第一图案包括：

形成多个第一次图案；以及

形成多个第二次图案，其中该多个第一次图案中的每一个的轮廓与该多个第二次图案中的每一个的轮廓不同。

14.如权利要求12所述的校正方法，其中产生该校正叠置误差包括：

将多个校正参数分为一第一组校正参数和一第二组校正参数；

分别从该多个第一次图案中获得该第一组校正参数的一第一对应数据，以及从该多个第二次图案中获得该第二组校正参数的一第二对应数据；以及

根据该叠置误差、该第一对应数据和该第二对应数据，产生该校正叠置误差。