[发明专利]一种变形TiAl合金组织均匀化调控方法

权利要求书

1.一种变形TiAl合金组织均匀化调控方法，其特征在于包括以下步骤：

步骤一、热塑性变形后的TiAl合金坯料作为TiAl合金热处理试样，所述TiAl合金热处理试样截面形状不限；

步骤二、将所述的TiAl合金热处理试样放入箱式热处理炉中，升温至α+γ双相区中上部温区；

步骤三、将步骤二得的TiAl合金热处理试样迅速转入热处理炉中保温；

步骤四、将步骤三得的TiAl合金热处理试样迅速转入热处理炉中保温，通过不同冷速冷却，获得片层间距可控的组织均匀的全片层或近全片层组织。

2.如权利要求1所述一种变形TiAl合金组织均匀化调控方法，其特征在于，所述TiAl合金成分的元素原子百分比为：Ti-(40～45)Al-X-Y，其中X元素是由β相稳定元素Cr、Mo、Nb、V、W的一种或者多种组成，Y元素是由C、B、Si、N、Re元素组成，所述X元素原子比总含量不超过10％，Y元素原子比总含量不超过1％，其余为杂质元素。

3.如权利要求1所述一种变形TiAl合金组织均匀化调控方法，其特征在于，所述变形材料的热塑性变形量≥50％且组织破碎；微观组织是由扭曲及残余α₂/γ片层、等轴γ晶粒和部分α₂、β_o晶粒组成。

4.如权利要求1所述一种变形TiAl合金组织均匀化调控方法，其特征在于，在所述步骤二中，TiAl合金热处理时炉温处在α+γ双相区的中上部温区即γ固溶温度以下20～60℃(T_γsolve-(20～60℃))，温度设定需要参照平衡相图或者淬火试验结果，保温时间为7～24h，迅速转炉，转移时间0～20s。

5.如权利要求1所述一种变形TiAl合金组织均匀化调控方法，其特征在于，在所述步骤三中，TiAl合金热处理时炉温为γ固溶温度以上0～50℃(T_γsolve+(0～50℃))，保温时间为5～60min，迅速转炉，转移时间0～20s。

6.如权利要求1所述一种变形TiAl合金组织均匀化调控方法，其特征在于，在所述步骤四中，TiAl合金热处理时炉温处在共析转变温度附近0～50℃(T_eu±(0～50℃))，保温时间为0～60min，冷却方式可依据需求调节，片层团尺寸可控制在100μm以内。

7.如权利要求1所述一种变形TiAl合金组织均匀化调控方法，其特征在于，步骤二至四中热处理炉为空气介质的普通热处理炉。

8.如权利要求1所述一种变形TiAl合金组织均匀化调控方法，其特征在于，所述的步骤二中，所述试样随炉升温，到达设定温度后开始计时。

9.如权利要求1所述一种变形TiAl合金组织均匀化调控方法，其特征在于，所述的步骤三、四中，将所述的热处理试样放入热处理炉的均温区，待热处理炉的温度回升至设定温度后开始计时。

10.如权利要求1所述一种变形TiAl合金组织均匀化调控方法，其特征在于，所述的步骤四中，冷却方式可以根据最终的组织需求选择炉冷、空冷或控温冷却。