[发明专利]回音壁模式微腔及其色散控制方法、倍频程光梳产生装置

权利要求书

1.一种回音壁模式微腔的色散控制方法，其特征在于，所述回音壁模式微腔包括衬底和位于所述衬底一侧的支撑柱和微盘腔，所述微盘腔处于反常色散区且包括至少一个色散波；

改变所述微盘腔的尺寸，以实现所述色散波位置调节。

2.根据权利要求1所述的回音壁模式微腔的色散控制方法，其特征在于，所述微盘腔的形状为圆台，所述改变所述微盘腔的尺寸，以实现所述色散波位置调节，包括：

调整所述圆台的直径、厚度和侧壁倾角中的至少一者，以改变所述色散波的位置；

其中，所述直径为所述圆台的下底直径，所述厚度为所述圆台的高，所述侧壁倾角为所述圆台的母线与所述圆台的下底的夹角。

3.根据权利要求2所述的回音壁模式微腔的色散控制方法，其特征在于，所述微盘腔包括第一色散波和第二色散波，所述第一色散波的对应波长小于所述第二色散波的对应波长；

调整所述直径、厚度和侧壁倾角中的一者，以改变所述第一色散波和所述第二色散波的位置。

4.根据权利要求3所述的回音壁模式微腔的色散控制方法，其特征在于，固定所述厚度和所述侧壁倾角，增大所述直径，所述第一色散波向短波方向移动，所述第二色散波向长波方向移动。

5.根据权利要求3所述的回音壁模式微腔的色散控制方法，其特征在于，固定所述直径和所述厚度，增大所述侧壁倾角，所述第一色散波向短波方向移动，所述第二色散波向长波方向移动。

6.根据权利要求3所述的回音壁模式微腔的色散控制方法，其特征在于，固定所述直径和所述侧壁倾角，增大所述厚度，所述第二色散波向长波方向移动。

7.一种回音壁模式微腔，其特征在于，包括衬底和位于所述衬底一侧的支撑柱和微盘腔，所述微盘腔的色散波的位置利用权利要求1～6任一所述的回音壁模式微腔的色散控制方法调节。

8.根据权利要求7所述的回音壁模式微腔，其特征在于，所述微盘腔的材料包括氟化镁、氟化钡、铌酸锂、氮化铝、氮化硅或碳化硅。

9.根据权利要求7所述的回音壁模式微腔，其特征在于，所述回音壁模式微腔利用干法刻蚀工艺制备。

10.一种倍频程光梳产生装置，其特征在于，包括权利要求7～9任一所述的回音壁模式微腔。