[发明专利]真空室测温参考点装置及真空室测温系统

权利要求书

1.一种真空室测温参考点装置，其特征在于，包括导热基座和导热盖组成的等温块，所述导热基座上设有若干热电偶固定槽和热电阻穿孔，所述导热盖设有与所述热电偶固定槽匹配的凸齿，参考热电偶的测温端头设置于所述热电偶固定槽内，所述导热盖盖合于所述导热基座上，所述凸齿嵌入所述热电偶固定槽并将所述测温端头抵压在所述热电偶固定槽的槽底，所述热电阻穿孔位于所述热电偶固定槽的下方，所述热电阻穿孔内设有压板，所述导热基座设有锁紧螺钉，由所述锁紧螺钉通过所述压板将热电阻固定在所述压板和所述热电阻穿孔的孔壁之间，所述等温块外设置不少于两层的热屏蔽层。

2.根据权利要求1所述的真空室测温参考点装置，其特征在于，所述导热基座的顶面设有凹腔，所述热电偶固定槽设置在所述凹腔的腔底，所述导热盖设有与所述凹腔过盈配合的凸台，所述凸齿设置在所述凸台的台面上，所述凸齿与所述热电偶固定槽过盈配合。

3.根据权利要求1所述的真空室测温参考点装置，其特征在于，所述压板和所述热电阻穿孔的孔壁设有相对的卡槽，所述卡槽与所述热电阻的铠装外壳体过盈配合。

4.根据权利要求1所述的真空室测温参考点装置，其特征在于，所述导热基座和所述导热盖为紫铜件。

5.根据权利要求1所述的真空室测温参考点装置，其特征在于，每个所述热屏蔽层包括相互配合屏蔽罐和屏蔽盖，多个热屏蔽层的屏蔽罐依次套叠，所述等温块设置在最内层的所述屏蔽罐内，所述屏蔽罐与所述屏蔽罐之间、所述屏蔽罐与所述导热基座之间设有第一绝热绝缘垫，所述屏蔽盖与所述屏蔽盖之间、所述屏蔽盖与所述导热盖之间设有第二绝热绝缘垫，所述导热盖上固定有连接柱，所述第二绝热绝缘垫和所述屏蔽盖交错套设在所述连接柱上。

6.根据权利要求5所述的真空室测温参考点装置，其特征在于，所述屏蔽盖上设有穿线孔，不同热屏蔽层的所述穿线孔交错设置。

7.一种真空室测温系统，其特征在于，包括若干测温热电偶、接收端和权利要求1至6中任意一项所述的真空室测温参考点装置，所述接收端设置在真空室外，所述测温热电偶设置在真空室的热沉内，所述真空室测温参考点装置设置在所述热沉和所述真空室的腔壁之间，所述测温热电偶和所述参考热电偶的公共端在所述真空室内短接，所述测温热电偶和所述参考热电偶的测温线以及所述热电阻的引线从所述真空室穿出与所述接收端连接。