[发明专利]一种微纳结构加载的基于槽型波导的超紧凑型波导结构在审

专利信息
申请号: 202211729627.1 申请日: 2022-12-30
公开(公告)号: CN115963597A 公开(公告)日: 2023-04-14
发明(设计)人: 岳文成;蔡艳 申请(专利权)人: 中国科学院上海微系统与信息技术研究所
主分类号: G02B6/12 分类号: G02B6/12;G02B6/136
代理公司: 上海泰博知识产权代理有限公司 31451 代理人: 谢文凯
地址: 200050 *** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 一种 结构 加载 基于 波导 紧凑型
【权利要求书】:

1.一种波导结构,其特征在于,所述波导结构包括衬底、埋氧层、设于埋氧层上的槽型波导、包覆层,其中槽型波导由条形波导和槽型区域组成,条形波导上设有微纳结构。

2.根据权利要求1所述波导结构,其特征在于,所述槽型波导为单个槽型波导结构或阵列排布结构。

3.根据权利要求1所述波导结构,其特征在于,所述槽型区域尺寸为纳米量级。

4.根据权利要求1所述波导结构,其特征在于,所述微纳结构为单个结构或复合结构;其中所述单个结构的横截面为椭圆形、矩形中的一种;所述复合结构的横截面为不同尺寸的矩形组成一个微纳单元结构。

5.根据权利要求1所述波导结构,其特征在于,所述条形波导上设有若干微纳结构,微纳结构排列为周期性排列或变周期排列。

6.根据权利要求1所述波导结构,其特征在于,所述微纳结构为非对称结构。

7.根据权利要求1所述波导结构,其特征在于,所述条形波导为硅波导、锗波导、氮化硅波导、碳化硅波导中的一种。

8.一种波导结构的制备方法,包括:

(1)在晶圆上通过光刻、刻蚀形成槽型波导或槽型波导阵列;

(2)通过光刻、刻蚀在条形波导上形成微纳结构;

(3)沉积二氧化硅以填充微纳结构和槽型区域,并形成包覆层。

9.一种权利要求1所述波导结构在集成光学中应用。

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