[发明专利]去胶设备及去胶方法

说明书

本申请涉及纳米压印技术领域，公开一种去胶设备，包括浸泡部、清洗部和移动部，浸泡部包括浸泡槽、储存罐和高压喷嘴，储存罐与高压喷嘴连通，高压喷嘴的出口位于浸泡槽槽底的上方，浸泡槽用于盛放去胶液，储存罐用于储存去胶液，浸泡部用于去除母版或压印片上的粘胶；清洗部包括清洗槽，清洗部用于清洗母版或压印片的残余去胶液；移动部包括移动组件和真空吸盘，移动组件与真空吸盘连接，真空吸盘用于吸附母版或压印片，移动部用于带动母版或压印片移动。采用本公开的去胶设备能够有效去除母版和压印片上的粘胶，实现母版和压印片的循环利用，能够有效节约成本，且本申请能够自动化去胶，相比人工操作更加安全高效。本申请还公开一种去胶方法。

技术领域

本申请涉及纳米压印技术领域，例如涉及一种去胶设备及去胶方法。

背景技术

纳米压印技术是一种新型的微纳加工技术，该技术通过机械转移的手段，达到了超高的分辨率，有望在未来取代传统光刻技术，成为微电子、材料领域的重要加工手段。不过，纳米压印技术是一种接触式复制压印方式，进入批量生产仍然面临着不少棘手的问题，比如母版或压印片粘胶等。

需要说明的是，在上述背景技术部分公开的信息仅用于加强对本申请的背景的理解，因此可以包括不构成对本领域普通技术人员已知的现有技术的信息。

发明内容

为了对披露的实施例的一些方面有基本的理解，下面给出了简单的概括。所述概括不是泛泛评述，也不是要确定关键/重要组成元素或描绘这些实施例的保护范围，而是作为后面的详细说明的序言。

本公开实施例提供一种去胶设备及去胶方法，以去除母版或压印片上的粘胶。

在一些实施例中，所述去胶设备包括浸泡部、清洗部和移动部，浸泡部包括浸泡槽、储存罐和高压喷嘴，储存罐与高压喷嘴连通，高压喷嘴的出口位于浸泡槽槽底的上方，浸泡槽用于盛放去胶液，储存罐用于储存去胶液，浸泡部用于去除母版或压印片上的粘胶；清洗部包括清洗槽，清洗部用于清洗母版或压印片的残余去胶液；移动部包括移动组件和真空吸盘，移动组件与真空吸盘连接，真空吸盘用于吸附母版或压印片，移动部用于带动母版或压印片移动。

可选地，移动组件包括旋转机构、升降机构和横向移动机构，旋转机构与真空吸盘连接，用于带动真空吸盘以轴线为轴旋转，以使母版或压印片旋转；升降机构与旋转机构连接，用于带动母版或压印片升降；横向移动机构安装在浸泡部和清洗部上方，用于带动母版或压印片在浸泡槽和清洗槽之间移动。

可选地，移动组件包括槽盖，槽盖与升降机构连接，槽盖可随真空吸盘同步升降；清洗槽与浸泡槽的顶部结构相同；槽盖与清洗槽、浸泡槽均结构配合。

可选地，浸泡部还包括第一回收管和回收开关，第一回收管的第一端与浸泡槽在底部开设的第一回收孔对接，第二端与储存罐连通；回收开关安装在第一回收管上。

可选地，浸泡部还包括孔板，孔板安装在浸泡槽内，孔板上均匀设置有若干过滤孔，过滤孔用于过滤残胶。

可选地，浸泡部还包括抬升机构、第二回收管、废料桶和重力开关组件，抬升机构与孔板的一侧连接，抬升机构用于使孔板的一侧升起，使在孔板上的残胶沿孔板滑落；第二回收管的第一端与浸泡槽在底部开设的第二回收孔对接；废料桶与第二回收管的第二端连通；重力开关组件安装在第二回收管上，重力开关组件用于在残胶重量超过设定值时，导通第二回收管，使残胶落入废料桶；其中，第二回收孔位于浸泡槽的远离孔板与抬升机构的连接端的一侧。

可选地，重力开关组件包括承压结构、驱动结构、称重传感器和控制结构，承压结构用于承接残胶；驱动结构与承压结构的侧部连接，用于驱动承压结构翻转；称重传感器安装在承压结构上，用于计量残胶的重力；控制结构与称重传感器和驱动结构电连接，用于在承压结构上的残胶的重力超过设定值的情况下，控制驱动结构转动，使承压结构翻转，残胶掉落至废料桶内。

可选地，在母版或压印片位于浸泡部的情况下，第一回收孔和第二回收孔封闭。