[发明专利]PQ仪分析铁磁磨粒的方法、数据处理系统及包含其的PQ仪

权利要求书

1.一种PQ仪进行铁磁磨粒分析的方法，其特征在于，包括以下步骤：

步骤S1、利用PQ仪分别测试待测样品的“均匀分布”状态与“均匀沉积”状态的PQ指数；所述样品“均匀分布”状态的PQ指数为PQ′_Dis，所述待测样品“均匀沉积”状态的PQ指数为PQ′_Dep；

步骤S2、利用公式计算得到测量沉均比G_Tes；

步骤S3、利用公式K_Cal＝C·G_Tes^-1.1，其中C为关联常数，以获得所述样品的PQ指数与铁磁磨粒含量的计算关联系数K_cal；

步骤S4、利用公式获得所述样品的铁磁磨粒含量N_cal。

2.根据权利要求1所述的PQ仪进行铁磁磨粒分析的方法，其特征在于，所述步骤S1中，所述样品在PQ仪配套的样品盒内进行测试，所述“均匀分布”状态的测试在摇晃分散所述样品并取样至样品盒后立即进行；所述“均匀沉积”状态的测试是对已进行“均匀分布”状态测试的样品实施静置，待样品盒内铁磁磨粒完全沉积于样品盒底部后进行。

3.根据权利要求2所述的PQ仪进行铁磁磨粒分析的方法，其特征在于，所述步骤S1中，对于所述“均匀分布”状态的测试，每一样品多组平行取样，测试结果的差值若在±10PQ内，则认为样品数据满足状态要求；每个样品重复测定10次PQ指数，取PQ指数的平均值计算，得到数据PQ′_Dis。

4.根据权利要求2所述的PQ仪进行铁磁磨粒分析的方法，其特征在于，所述步骤S1中，对于所述“均匀沉积”状态的测试，若同一样品前后2h内测试数据结果偏差在±5PQ内，则认为样品盒内铁磁磨粒已完全沉积于样品盒底部，样品数据满足状态要求；每个样品测定10次PQ指数取平均值，得到数据PQ′_Dep。

5.根据权利要求1或2所述的PQ仪进行铁磁磨粒分析的方法，其特征在于，通过样品从“均匀分布”状态实施静置至“均匀沉积”状态所用的时间可以定性判断样品中铁磁磨粒的尺寸范围。

6.根据权利要求5所述的PQ仪进行铁磁磨粒分析的方法，其特征在于，所述时间长短与磨粒平均尺寸大小呈反方向变化；样品从“均匀分布”状态实施静置至“均匀沉积”状态所用的时间为0.5～4h，对应样品中铁磁磨粒的平均尺寸为100～5μm。

7.根据权利要求1或2所述的PQ仪进行铁磁磨粒分析的方法，其特征在于，通过沉均比G_Tes的大小可以定性判断样品中铁磁磨粒的尺寸范围。

8.根据权利要求7所述的PQ仪进行铁磁磨粒分析的方法，其特征在于，沉均比大小与磨粒平均尺寸大小呈反方向变化；沉均比G_Tes为1.5～3.5，对应磨粒平均尺寸≤50μm；沉均比G_Tes值趋近于1，对应磨粒平均尺寸＞50μm。

9.PQ仪进行铁磁磨粒分析的数据处理系统，其特征在于，配置于所述PQ仪，包括数据采集模块和数据分析模块；所述数据采集模块采集样品“均匀分布”状态与“均匀沉积”状态下的PQ指数，所述数据分析模块根据权利要求1至8任一项所述的PQ仪分析铁磁磨粒的方法进行数据分析。

10.一种PQ仪，其特征在于，配置权利要求9所述的数据处理系统。