[发明专利]一种圆偏振光电流区分二维Bi2O2Se表面极性的方法在审
申请号: | 202211735781.X | 申请日: | 2022-12-31 |
公开(公告)号: | CN116223927A | 公开(公告)日: | 2023-06-06 |
发明(设计)人: | 俞金玲;武文逸;程树英 | 申请(专利权)人: | 福州大学 |
主分类号: | G01R29/24 | 分类号: | G01R29/24;G01R19/00 |
代理公司: | 福州元创专利商标代理有限公司 35100 | 代理人: | 张灯灿;蔡学俊 |
地址: | 350108 福建省福州市*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 偏振光 电流 区分 二维 bi2o2se 表面 极性 方法 | ||
本发明涉及一种圆偏振光电流区分二维Bisubgt;2/subgt;Osubgt;2/subgt;Se表面极性的方法,该方法通过测试Bisubgt;2/subgt;Osubgt;2/subgt;Se纳米片的圆偏振光电流随离子液体栅压的变化趋势,可简单区分二维Bisubgt;2/subgt;Osubgt;2/subgt;Se表面极性;若圆偏振光电流随栅压增大而线性增大,说明Bisubgt;2/subgt;Osubgt;2/subgt;Se的初始表面极性为Bi原子截止,其初始表面带正电;若圆偏振光电流幅值随栅压先减小至0,反号后继续反向增大,则说明Bisubgt;2/subgt;Osubgt;2/subgt;Se的初始表面极性为Se原子截止,其初始表面带负电。该方法测量准确,简单易行,对样品表面没有破坏,广泛适用于表面具有极性且存在自旋轨道耦合的材料。
技术领域
本发明涉及自旋电子学领域,尤其涉及一种圆偏振光电流区分二维Bi2O2Se表面极性的方法。
背景技术
Bi2O2Se作为一种高迁移率的层状二维材料,具有合适的带隙、特大的光响应率与超快的响应速度,在光电器件领域具有优异的发展潜力。并且,其表现出超高的水氧稳定性,在实际应用中具有很大优势。此外,通过低温磁输运测量,发现Bi2O2Se中存在强自旋轨道耦合效应,这一发现为Bi2O2Se在自旋电子学和自旋光电器件领域的研究打下基础。
Bi2O2Se是一种典型的层状氧化硫族化合物。其晶体结构由交替补偿的阳离子(Bi2O2)n2n+和阴离子(Se)n2n-交替堆积组成,以弱静电相互作用保持层状结构。在二维Bi2O2Se的生长过程中,其发展模式为逐层生长,使得最外层表面或为带正电的Bi层截止,或为带负电的Se层截止,这为Bi2O2Se表面引入不同的表面极性。相反的表面极性引起不同方向的表面能带弯曲,并在带隙之间引入了不同形式的Rashba型表面态,并且其Rashba自旋轨道耦合系数相反,使得两种表面截止类型的Bi2O2Se具有不同的表面电子能带结构,并且其产生的圆偏振光电流方向相反。由于在Bi2O2Se的表面生长过程中,截止类型是随机的,判断其表面截止类型成为一个难点,并对Bi2O2Se在自旋电子学的研究中带来了挑战。
发明内容
本发明的目的在于提供一种圆偏振光电流区分二维Bi2O2Se表面极性的方法,该方法测量准确,简单易行,适用范围广。
为实现上述目的,本发明采用的技术方案是:一种圆偏振光电流区分二维Bi2O2Se表面极性的方法,包括以下步骤:
步骤S1:通过化学气相沉积法在管式炉中的衬底上生长Bi2O2Se纳米片;
步骤S2:通过紫外光刻和热蒸发技术在纳米片上制作接触电极,并在距离纳米片设定距离的位置制作栅电极;
步骤S3:在衬底上设置环形支架,从而在纳米片表面形成凹槽,凹槽覆盖整个纳米片和部分栅电极,在凹槽中加入离子液体并盖上盖玻片进行封装,形成测试结构;离子液体同时覆盖整个纳米片表面并与栅电极接触,栅电极通过离子液体对纳米片表面施加栅压;
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