[实用新型]暂存与回流框架基板系统有效
申请号: | 202220051615.7 | 申请日: | 2022-01-10 |
公开(公告)号: | CN216736416U | 公开(公告)日: | 2022-06-14 |
发明(设计)人: | 周坤麟 | 申请(专利权)人: | 叙丰企业股份有限公司 |
主分类号: | B65G47/90 | 分类号: | B65G47/90;H05K3/06 |
代理公司: | 北京市浩天知识产权代理事务所(普通合伙) 11276 | 代理人: | 刘云贵 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 暂存 回流 框架 系统 | ||
1.一种暂存与回流框架基板系统,用于在基板上形成电路图案,其特征在于,所述暂存与回流框架基板系统包含:
基板框架,适于装载所述基板;
基板装卸站,包括机械手臂、出入料单元以及回料单元,所述基板框架适于结合于所述出入料单元及所述回料单元,所述机械手臂适于将所述基板放入或卸除于所述基板框架;
第一输送单元,连接于所述出入料单元且适于输送所述基板框架,以使装载于所述基板框架的基板在输送过程中进行显影及清洗制程;以及
第二输送单元,连接于所述第一输送单元与所述回料单元之间,所述第二输送单元适于输送所述基板框架,以使装载于所述基板框架的基板在进行完制程后回到所述基板装卸站,以被所述机械手臂从所述基板框架取下。
2.根据权利要求1所述的暂存与回流框架基板系统,其特征在于,所述暂存与回流框架基板系统还包括显影清洗模块,所述显影清洗模块配置于所述第一输送单元的沿线上,以对所述基板进行显影及清洗。
3.根据权利要求2所述的暂存与回流框架基板系统,其特征在于,所述暂存与回流框架基板系统还包括加强清洗模块,所述加强清洗模块配置于所述第一输送单元的沿线上且相较所述显影清洗模块远离于所述出入料单元。
4.根据权利要求1所述的暂存与回流框架基板系统,其特征在于,所述暂存与回流框架基板系统还包括暂存模块,所述暂存模块配置于所述第一输送单元的沿线上,以暂存装载有所述基板的至少一个基板框架。
5.根据权利要求4所述的暂存与回流框架基板系统,其特征在于,所述暂存模块包括滑轨、活动部以及多个暂存部,所述滑轨配置于所述暂存部之间且一端朝向所述第一输送单元,所述活动部滑设于所述滑轨并对应所述第一输送单元,且所述暂存部也对应所述第一输送单元。
6.根据权利要求5所述的暂存与回流框架基板系统,其特征在于,所述第一输送单元、所述第二输送单元、所述回料单元及所述出入料单元设有相同的滚轮结构。
7.根据权利要求1所述的暂存与回流框架基板系统,其特征在于,所述暂存与回流框架基板系统还包括转向模块,所述转向模块包括滑轨及活动单元,所述滑轨位于所述第一输送单元及所述第二输送单元远离于所述基板装卸站的一端,所述活动单元滑设于所述滑轨并对应所述第一输送单元及所述第二输送单元,以适于接合于所述第一输送单元或所述第二输送单元。
8.根据权利要求7所述的暂存与回流框架基板系统,其特征在于,所述第一输送单元、所述第二输送单元、所述回料单元及所述出入料单元设有相同的滚轮结构。
9.根据权利要求1所述的暂存与回流框架基板系统,其特征在于,所述基板框架包括支撑结构,所述支撑结构包括背板、多个支撑梁以及多个支撑柱,所述支撑梁跨接于所述基板框架两侧,所述背板用于抵顶于所述基板且与所述支撑梁相对,所述支撑柱连接于所述支撑梁与所述背板之间。
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