[实用新型]一种高纯度光学镀膜硅酸铝制备用烧结装置有效
申请号: | 202220247916.7 | 申请日: | 2022-01-31 |
公开(公告)号: | CN217210397U | 公开(公告)日: | 2022-08-16 |
发明(设计)人: | 李晨;李洪亮 | 申请(专利权)人: | 徐州盛唐光电科技有限公司 |
主分类号: | F27D17/00 | 分类号: | F27D17/00;F27D19/00 |
代理公司: | 宁波海曙甬睿专利代理事务所(普通合伙) 33330 | 代理人: | 要丽欣 |
地址: | 221400 江苏省徐*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 纯度 光学 镀膜 硅酸 铝制 备用 烧结 装置 | ||
本实用新型公开了一种高纯度光学镀膜硅酸铝制备用烧结装置,涉及硅酸铝制备领域,包括加工台,所述加工台上端表面设置有传送带,所述传送带上端表面放置有承载盒,所述加工台上端且位于中间位置设置有加工箱,所述加工箱两侧壁靠近底部位置均开设有进料槽,所述加工箱两内侧壁均设置有调节机构,所述加工箱顶部位置设置有清理机构,所述调节机构包括支架,两组所述支架之间设置有定位环,所述定位环内侧壁之间设置有喷管,所述加工箱两侧壁靠近顶部位置均设置有连接管;本实用新型能够调节喷管的喷口的朝向,从而便于对堆积的原料的各个位置进行加热,有效提高烧结效率,便于工作人员对烧结时产生的废气中的灰尘进行处理。
技术领域
本实用新型涉及硅酸铝制备领域,尤其涉及一种高纯度光学镀膜硅酸铝制备用烧结装置。
背景技术
烧结是指把粉状物料转变为致密体,是一个传统的工艺过程,人们很早就利用这个工艺来生产陶瓷、粉末冶金、耐火材料以及超高温材料等,一般来说,粉体经过成型后,通过烧结得到的致密体是一种多晶材料,其显微结构由晶体、玻璃体和气孔组成,烧结过程直接影响显微结构中的晶粒尺寸、气孔尺寸及晶界形状和分布,进而影响材料的性能。
市场上常见的高纯度光学镀膜硅酸铝制备用烧结装置,大多不便于调节喷管的喷口的角度,不便于对废气中的灰尘进行处理,为此,我们提出一种高纯度光学镀膜硅酸铝制备用烧结装置。
实用新型内容
本实用新型的目的是为了解决现有技术中存在的缺陷,而提出的一种高纯度光学镀膜硅酸铝制备用烧结装置。
为了实现上述目的,本实用新型采用了如下技术方案:
一种高纯度光学镀膜硅酸铝制备用烧结装置,包括加工台,所述加工台上端表面设置有传送带,所述传送带上端表面放置有承载盒,所述加工台上端且位于中间位置设置有加工箱,所述加工箱两侧壁靠近底部位置均开设有进料槽,所述加工箱两内侧壁均设置有调节机构,所述加工箱顶部位置设置有清理机构。
作为本实用新型的进一步方案:所述调节机构包括支架,两组所述支架之间设置有定位环,所述定位环内侧壁之间设置有喷管,所述加工箱两侧壁靠近顶部位置均设置有连接管,所述支架和加工箱内侧壁之间均设置有转轴。
作为本实用新型的进一步方案:所述加工箱侧壁靠近边角位置均设置有正反电机,且正反电机的旋转轴与转轴一端固接,所述连接管一端连接有燃料箱,所述连接管另一端与喷管连接,所述喷管内部设置有电点火器。
作为本实用新型的进一步方案:所述清理机构包括储灰槽,所述储灰槽内部底端靠近两侧位置均设置有横板,所述横板一侧开设有横槽。
作为本实用新型的进一步方案:所述储灰槽内部底端且位于两组横板之间位置设置有隔板,所述隔板上端表面靠近一侧位置设置有刮板,所述隔板上端靠近另一侧位置设置有拉板,所述加工箱右侧壁靠近顶部位置开设有除灰槽,所述储灰槽内侧壁之间靠近槽口位置设置有盖板,所述盖板上端表面开设有若干组出风槽。
作为本实用新型的进一步方案:加工箱内部顶端开设有散热槽,且散热槽与横板上开设有横槽相连通,所述隔板通过拉板配合除灰槽活动设置在两组横板之间位置。
相比于现有技术,本实用新型的有益效果在于:
1、转轴一端贯穿支架与喷管侧壁固接,启动正反电机使转轴先顺时针旋转180°再逆时针旋转180°,此时喷管的喷口端通过定位环在两组支架之间上下摆动,可以调节喷管的喷口的朝向,从而便于对堆积的原料的各个位置进行加热,有效提高烧结效率。
2、废气通过横板上开设的横槽喷射到隔板上方位置,然后废气中的灰尘会附着在隔板表面以及储灰槽内部顶端表面,废气经过出风槽排出加工箱,工作人员通过拉板拉动隔板,隔板带动刮板向除灰槽位置移动,在此过程中刮板会将附着在储灰槽内部顶端表面灰尘刮落至隔板上端表面,隔板经过除灰槽从储灰槽内部移出,便于工作人员对烧结时产生的废气中的灰尘进行处理。
附图说明
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