[实用新型]脱低分子设备

权利要求书

1.一种脱低分子设备，其特征在于，包括：

外筒体，所述外筒体内部存在容纳空间，所述外筒体开设有进料口，物料通过进料口被输送至容纳空间内；

上封头，所述上封头设置于所述外筒体的上端，其中，所述上封头开设有真空口；

下封头，所述下封头设置于所述外筒体的下端，其中，所述下封头开设有出料口；以及

分布板，所述分布板设置于所述外筒体的内壁，并且所述分布板位于所述进料口的下方，所述分布板上开设有多个通过孔；所述分布板的中部形成有中心孔，所述分布板上设置有内筒体，所述内筒体呈中空状，且所述内筒体的下端环绕所述分布板的中心孔设置。

2.根据权利要求1所述的脱低分子设备，其特征在于，所述外筒体与所述上封头通过法兰连接。

3.根据权利要求1所述的脱低分子设备，其特征在于，所述外筒体与所述下封头一体成型。

4.根据权利要求1所述的脱低分子设备，其特征在于，所述内筒体的轴线与所述外筒体的轴线相同。

5.根据权利要求1所述的脱低分子设备，其特征在于，所述内筒体的上端固定有盖板。

6.根据权利要求5所述的脱低分子设备，其特征在于，所述盖板位于所述进料口的上方。

7.根据权利要求1所述的脱低分子设备，其特征在于，所述分布板呈圆环形平板。

8.根据权利要求5所述的脱低分子设备，其特征在于，还包括托板和挡板，所述托板和所述挡板均固定于所述外筒体的内壁上，所述盖板的端部位于所述托板和所述挡板形成的凹槽中。

9.根据权利要求5所述的脱低分子设备，其特征在于，所述盖板形成为扇环形形状。