[实用新型]一种内埋式金属网栅光学窗口

说明书

本实用新型涉及一种内埋式金属网栅光学窗口，包括基底、金属网栅层、填充材料层及保护层，金属网栅层紧密接合于基底上表面，填充材料层填充于金属网栅层的间隙之间，并覆盖金属网栅层上表面将金属网栅层内埋于其中，保护层紧密接合于填充材料层上表面。本实用新型通过在基底上镀制金属网栅，并在网栅面生长或填充所述填充材料层，实现金属网栅的内埋，可保证基底材料物理特性的完整性及面型特性的符合性，且能够精准控制金属网栅的形状及屏蔽效能，同时，金属网栅牢固度大大加强，不易剐蹭脱落，使用寿命长。本实用新型的内埋式金属网栅光学窗口具有强屏蔽且紫外光、可见光以及红外光高透过的特点。

技术领域

本实用新型涉及光学窗口技术领域，特别是一种内埋式金属网栅光学窗口。

背景技术

随着电视、广播、微波技术以及无线通讯技术的发展，电磁污染不仅对精密电子仪器设备造成干扰，还对人体健康产生不可忽略的负面影响。这种看不见，摸不着的电磁污染已经成为继大气污染、水污染、固体废弃物染污以及噪声污染之后的第五大污染。金属技术(吸收以及反射)是解决电磁污染的主要措施，近年来，电磁干扰屏蔽技术受到了人们的广泛关注。现代社会中，金属体在军事、民用以及医疗等方面应用广泛，包括高端医疗设备观察窗、精密通讯设备屏蔽元件、超精细监控设备观察窗口、飞行器以及航空武器光学窗、先进光学仪器窗口等。这些精密仪器以及设备对于外界电磁干扰都异常敏感，这就要求金属体在保持可见光以及红外光高度透过的情况下，需要具备优异的金属性能。

使用传统方法制作的金属网栅光学窗口的金属网栅层是镀制在基板表面的，网栅高于基底材料，表现为凸起的状态，在使用过程中，容易被剐蹭脱落，使用寿命短。公开号为CN109769387A的发明专利公开了一种利用飞秒激光刻蚀的多层金属网栅电磁屏蔽光窗及其制作方法，其在基底材料上通过飞秒激光刻蚀的方式加工内埋金属网栅，网栅牢固度提升，结构示意图如附图1、2所示；但通过激光方式进行刻蚀时在材料边缘位置会形成小的锯齿形破边，因此，飞秒激光刻蚀出的沟槽并不是理论上的长方体，而是带有锯齿的沟槽，如附图3所示，在一定程度上破坏了材料物理特性的完整性及稳定性，以及基底材料的面型，降低了基底的机械强度，增加了基底尖齿位置出现延伸线性裂纹的风险。

实用新型内容

本实用新型的主要目的是克服现有技术的缺点，提供一种内埋式金属网栅光学窗口，可保证基底材料物理特性的完整性及面型特性的符合性，能够精准控制金属网栅的形状及屏蔽效能，且金属网栅牢固度大大加强，不易剐蹭脱落，使用寿命长。

本实用新型采用如下技术方案：

一种内埋式金属网栅光学窗口，包括有基底、金属网栅层、填充材料层及保护层，金属网栅层紧密接合于基底上表面，填充材料层填充于金属网栅层的间隙之间，并覆盖金属网栅层上表面将金属网栅层内埋于其中，保护层紧密接合于填充材料层上表面。

进一步地，所述金属网栅层的形状为周期性排列的方格阵列、圆环阵列、蜂窝阵列及不规则网状纹中的一种或多种。

进一步地，所述金属网栅层包括周期性排列的多个网栅单元，且各个网栅单元之间相互连接不断开。

进一步地，所述金属网栅层的网栅单元的排列周期为100～1000微米，线宽为1～10微米，线宽与排列周期的比值小于0.1。

进一步地，所述填充材料层采用可见光材料或红外材料。

进一步地，所述填充材料层为一体成型结构。

进一步地，所述基底上表面为平面。

进一步地，所述保护层采用HK9L、石英、微晶、ZNS、ZNSE、Si、Ge、蓝宝石、氧化物、氟化物材料中的一种。

进一步地，所述所述金属网栅层采用Au、Ag、Cu材料中的一种。

进一步地，所述基底采用HK9L、石英、微晶、ZNS、ZNSE、Si、Ge、蓝宝石、氟化镁材料中的一种。