[实用新型]一种有机发光二极管基板及显示面板有效

专利信息
申请号: 202220372414.7 申请日: 2022-02-23
公开(公告)号: CN217280854U 公开(公告)日: 2022-08-23
发明(设计)人: 赵德江;李杨;卢天豪;田禹 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司
主分类号: H01L51/52 分类号: H01L51/52;H01L51/56;H01L27/32
代理公司: 北京正理专利代理有限公司 11257 代理人: 张帆
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 有机 发光二极管 显示 面板
【说明书】:

本申请的一个实施例公开了一种有机发光二极管基板及显示面板,其中一实施例的有机发光二极管基板包括:衬底;设置在衬底上的多个阳极;设置在多个阳极远离衬底一侧的像素界定层,用于限定多个像素区域;设置在像素界定层和阳极远离衬底一侧的有机发光二极管功能层,以及覆盖有机发光二极管功能层的阴极;辅助阴极界定层,用于限定辅助阴极区域,辅助阴极界定层在衬底的正投影与像素区域在衬底的正投影至少部分交叠,辅助阴极区域至少露出部分像素界定层;以及设置在露出的像素界定层上的且位于辅助阴极区域的辅助阴极,辅助阴极与阴极电连接。本申请的实施例通过设置与阴极电连接的辅助阴极,能够降低阴极压降,减少像素间光学串扰。

技术领域

本申请涉及显示技术领域,特别是涉及一种有机发光二极管基板及显示面板。

背景技术

随着技术的不断进步,有机发光二极管(OLED)的制作水平有了很大的提高,目前正朝着大尺寸、高精细的方向发展。对于顶发射OLED,由于出光方向在阴极一侧,因此阴极的设计对显示性能有至关重要的影响。

阴极一般选择Mg/Ag结构或IZO等透明结构,在制作过程中,由于顶部阴极较薄,电阻不够,往往需要采用辅助电极的方法。目前采用辅助电极的方法有很多种,例如使用精细金属掩膜板FMM打孔的方法制作辅助电极。虽然其在一定程度上能够降低阴极的电阻,但像素间存在串扰问题。

实用新型内容

为了解决上述问题至少之一,本申请第一个实施例提供一种有机发光二极管基板,包括:

衬底;

设置在所述衬底上的多个阳极;设置在所述多个阳极远离所述衬底一侧的像素界定层,用于限定多个像素区域;

设置在所述像素界定层和阳极远离所述衬底一侧的有机发光二极管功能层,以及覆盖所述有机发光二极管功能层的阴极;

设置在所述像素区域上的辅助阴极界定层,用于限定辅助阴极区域,所述辅助阴极界定层在所述衬底的正投影与所述像素区域在所述衬底的正投影至少部分交叠,所述辅助阴极区域至少露出部分像素界定层;以及

设置在露出的所述像素界定层上的且位于所述辅助阴极区域的辅助阴极,所述辅助阴极与所述阴极电连接。

在一个具体实施例中,所述阴极覆盖所述有机发光二极管功能层和像素界定层,所述辅助阴极界定层设置在所述阴极上,所述辅助阴极设置在所述阴极上,并且所述辅助阴极、阴极和像素界定层在所述衬底上的正投影交叠。

在一个具体实施例中,所述有机发光二极管基板还包括覆盖所述辅助阴极和辅助阴极界定层的封装层。

在一个具体实施例中,所述阴极覆盖所述像素区域和部分像素界定层,所述辅助阴极界定层为覆盖所述阴极的第一封装层,所述辅助阴极界定层在所述衬底上的正投影与所述阴极在所述衬底上的正投影交叠。

在一个具体实施例中,所述有机发光二极管基板还包括设置在所述像素界定层和所述辅助阴极之间的金属辅助电极,所述金属辅助电极在所述衬底上的正投影与所述像素界定层在所述衬底上的正投影交叠,所述金属辅助电极通过所述辅助阴极与所述阴极电连接。

在一个具体实施例中,所述有机发光二极管基板还包括:覆盖所述辅助阴极的辅助阴极保护层,用于保护所述辅助阴极并与所述辅助阴极界定层平齐;以及覆盖所述辅助阴极保护层和所述辅助阴极界定层的第二封装层。

在一个具体实施例中,靠近所述像素区域的所述辅助阴极在垂直于所述衬底方向的厚度、大于远离所述像素区域的所述辅助阴极在垂直于所述衬底方向的厚度。

在一个具体实施例中,所述阴极为氧化铟锌,所述辅助阴极为纳米银,所述辅助阴极相对于所述衬底的厚度大于所述阴极相对于所述衬底的厚度;和/ 或所述辅助阴极限定层具有疏液性。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司,未经京东方科技集团股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202220372414.7/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top