[实用新型]一种上料端引线框架横向定位校准机构有效
申请号: | 202220413686.7 | 申请日: | 2022-07-11 |
公开(公告)号: | CN217361536U | 公开(公告)日: | 2022-09-02 |
发明(设计)人: | 丁琛琦 | 申请(专利权)人: | 马丁科瑞半导体技术(南京)有限公司 |
主分类号: | H01L21/68 | 分类号: | H01L21/68;H01L21/687;H01L21/60 |
代理公司: | 南京科知维创知识产权代理有限责任公司 32270 | 代理人: | 王萍萍 |
地址: | 211100 江苏省南京*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 上料端 引线 框架 横向 定位 校准 机构 | ||
1.一种上料端引线框架横向定位校准机构,包括内轨道、外轨道以及输送夹头,所述内轨道与所述外轨道从内到外相互平行设置,所述输送夹头可移动地夹持在所述内轨道上,所述输送夹头包括上夹板和下夹板,所述下夹板位于内轨道的下方,所述上夹板位于所述内轨道的上方,其特征在于:所述下夹板平行于所述内轨道,所述下夹板的头端设置有下夹持平台,所述外轨道与所述内轨道的内侧均设置支撑台,所述内轨道的所述支撑台的上表面与所述下夹持平台的上表面平齐;所述外轨道上设置有凹槽,所述凹槽的底面位于所述支撑台的上表面的下方,所述支撑台与所述凹槽相对处镂空,所述凹槽内嵌装有推顶机构,所述推顶机构紧贴所述凹槽的底面。
2.如权利要求1所述的上料端引线框架横向定位校准机构,其特征在于:所述支撑台的高度小于所述内轨道以及所述外轨道的高度。
3.如权利要求1所述的上料端引线框架横向定位校准机构,其特征在于:所述推顶机构包括支架、滑台气缸、导向块以及推顶块,所述支架固定在所述凹槽的外侧,所述滑台气缸固定在所述支架上,所述导向块与所述滑台气缸的输出端固定连接,所述推顶块固定在所述导向块的前端,所述导向块在所述滑台气缸的输出端未伸出时位于所述凹槽内。
4.如权利要求3所述的上料端引线框架横向定位校准机构,其特征在于:所述推顶块为L型且包括相互垂直的头端和尾端,所述推顶块扣装在所述导向块上,且所述头端位于所述导向块的前端,所述尾端位于所述导向块的上方,所述尾端上设置有长圆孔,所述长圆孔内可活动地穿设有台阶螺丝,所述台阶螺丝穿过所述长圆孔并固定在所述导向块上,所述尾端可前后移动地夹装在所述台阶螺丝与所述导向块之间。
5.如权利要求4所述的上料端引线框架横向定位校准机构,其特征在于:所述导向块上表面还设置有U型的限位槽,所述尾端卡装在所述限位槽内。
6.如权利要求4所述的上料端引线框架横向定位校准机构,其特征在于:所述推顶机构还包括有弹簧,所述弹簧的两端分别固定在所述导向块与所述前端相互相对的一侧面上。
7.如权利要求3所述的上料端引线框架横向定位校准机构,其特征在于:所述支撑台的镂空内嵌装有挡板,所述挡板的上表面与所述支撑台的上表面平齐,且所述挡板与所述外轨道之间存在间隙。
8.如权利要求1所述的上料端引线框架横向定位校准机构,其特征在于:所述支撑台的内侧还间隔设置有支撑架,所述支撑架的上表面低于所述支撑台的上表面,所述支撑架上固定设置有圆柱形的支撑杆,所述支撑杆的上外缘线与所述支撑台的上表面平齐。
9.如权利要求8所述的上料端引线框架横向定位校准机构,其特征在于:所述支撑杆所述下夹持平台和所述支撑台之间的距离相等。
10.如权利要求8所述的上料端引线框架横向定位校准机构,其特征在于:所述支撑架的上方设置圆弧形支座,所述支撑杆嵌装在所述圆弧形支座内。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造