[实用新型]一种便于亮点修复的Micro OLED显示器

说明书

本实用新型公开一种便于亮点修复的Micro OLED显示器，所述MicroOLED显示器从下至上依次包括：CMOS驱动背板、阳极、OLED、导电聚合物复合层、封装层、彩色滤光层及玻璃盖板，其中，导电聚合物复合层在吸收能量后发生弯曲变形。在通过激光进行点亮修复时，Ormoclear层将会吸收激光能量，进而发生卷曲变形，从而使该像素上的阴极结构被破环，从而使该像素变为暗点，其所需的激光能量相对较低，降低了亮点周边的正常像素损伤。

技术领域

本实用新型属于Micro OLED技术领域，更具体地，本实用新型涉及便于亮点修复的Micro OLED显示器。

背景技术

随着科技的进步与科技的发展，人们在追求显示效果的体验上也有着更高的需求，加之穿戴配套显示设备使其物理意义上的方法路径可行，5G时代的到来会解决数据量传输的问题，因此近年来Micro OLED(Organic Light Emitting Display)被称为下一代显示技术的黑马，现已广泛应用于机戴头盔、枪瞄、夜视仪等军用市场，并且随着AR/VR以及自动驾驶等新技术的应用，Micro OLED微显示器将迎来爆发式的增长。

在显示领域，由与制造步骤繁多，制作工艺精细，往往会发生由驱动电路异常导致的显示亮点。而从人眼视觉感受来看，暗点会更容易接受(如图2(a))。为了提高显示效果及生产良率，常用的手法是使用激光的方式，破坏亮点的驱动电路结构，人为地将其转换为暗点(如图2(b))。在Micro OLED显示中，背板为不透光的硅，只能从正面进行激光修复，人为地破环至OLED层，或阳极结构，才能将亮点转变为暗点，所述的激光能量高，容易导致周围的正常像素受损。

实用新型内容

本实用新型提供一种便于亮点修复的Micro OLED显示器，旨在改善上述问题。

本实用新型是这样实现的，一种便于亮点修复的Micro OLED显示器，所述MicroOLED显示器从下至上依次包括：

CMOS驱动背板、阳极、OLED、导电聚合物复合层、封装层、彩色滤光层及玻璃盖板，其中，导电聚合物复合层在吸收能量后发生弯曲变形。

进一步的，所述导电聚合物复合层从下至上依次由ormoclear层、银层及氧化钨层组成。

进一步的，ormoclear层的厚度为5um～10um，银层的厚度为5nm～20nm，氧化钨厚度为10nm～50nm。

在通过激光进行点亮修复时，Ormoclear层将会吸收激光能量，进而发生卷曲变形，从而使该像素上的阴极结构被破环，从而使该像素变为暗点，其所需的激光能量相对较低，降低了亮点周边的正常像素损伤。

附图说明

图1为本实用新型实施例提供的便于亮点修复的Micro OLED显示器的结构示意图；

图2为本实用新型实施例提供的亮点及暗点视觉对比图，其中(a)为亮点，(b)为暗点。

具体实施方式

下面对照附图，通过对实施例的描述，对本实用新型的具体实施方式作进一步详细的说明，以帮助本领域的技术人员对本实用新型的实用新型构思、技术方案有更完整、准确和深入的理解。

图1为本实用新型提供的便于亮点修复的Micro OLED显示器的结构示意图，为了便于说明，仅示出与本实用新型实施例相关的部分。

该的Micro OLED显示器从下至上依次包括：

CMOS驱动背板、阳极、OLED、导电聚合物复合层、封装层、彩色滤光层及玻璃盖板，其中，导电聚合物复合层在吸收能量后发生弯曲变形。