[实用新型]一种硅基OLED微显示器

说明书

本实用新型公开了一种硅基OLED微显示器，包括基板、阳极、PDL、OLED膜层以及封装层，所述阳极和PDL设在基板上，封装层覆盖在PDL和OLED膜层外侧，阳极位于基板和OLED膜层之间，所述基板上设有用于防止切割时封装膜层破裂的隔离柱。该硅基OLED微显示器结构设计合理，通过设置具有一定高度的隔离柱，使封装膜层沉积时有一定的起伏，防止切割时膜层破裂，保护封装膜层，以及缩短了生产时间，降低了成本。

技术领域

本实用新型涉及Micro OLED显示技术领域，尤其是涉及一种硅基OLED微显示器。

背景技术

Micro OLED(Organic Light Emitting Display)被称为下一代显示技术的黑马，现已广泛应用于机戴头盔、枪瞄、夜视仪等军用市场，并且随着AR/VR以及自动驾驶等新技术的应用，Micro OLED微显示器将迎来爆发式的增长。市场上现有的终端产品多为头戴式或穿戴式设备。在微显示制作流程中，会进行封装层切割，切割时膜层易破裂。

实用新型内容

针对现有技术不足，本实用新型所要解决的技术问题是提供一种硅基OLED微显示器，其可有效防止切割时破坏封装膜层。

为了解决上述技术问题，本实用新型所采用的技术方案为：

该硅基OLED微显示器，包括基板、阳极、PDL、OLED膜层以及封装层，所述阳极和PDL设在基板上，封装层覆盖在PDL和OLED膜层外侧，阳极位于基板和OLED膜层之间，所述基板上设有用于防止切割时封装膜层破裂的隔离柱。

进一步的：

所述隔离柱设在微显示器的发光区域以外。

所述隔离柱的厚度范围为100-115nm。

所述隔离柱为钛铝柱体。

所述隔离柱为锥台结构。

本实用新型与现有技术相比，具有以下优点：

该硅基OLED微显示器结构设计合理，通过设置具有一定高度的隔离柱，使封装膜层沉积时有一定的起伏，防止切割时膜层破裂，保护封装膜层，以及缩短了生产时间，降低了成本。

附图说明

下面对本说明书各幅附图所表达的内容及图中的标记作简要说明：

图1为本实用新型微显示器结构示意图。

图中：

1.基板、2.阳极、3.OLED膜层、4.封装层、5.隔离柱、6.PDL、7.OC1胶层、8.OC2胶层、9.盖板。

具体实施方式

下面对照附图，通过对实施例的描述，对本实用新型的具体实施方式作进一步详细的说明。

如图1所示，该硅基OLED微显示器，包括基板1、阳极2、PDL6、OLED膜层3以及封装层4；阳极2和PDL6设在基板上，封装层覆盖在PDL和OLED膜层外侧，阳极位于基板和OLED膜层之间，基板上设有用于防止切割时封装膜层破裂的隔离柱5。

隔离柱5设在微显示器的发光区域以外，通过设置具有一定高度的隔离柱，使封装膜层沉积时有一定的起伏，防止切割时膜层破裂，保护封装膜层，以及缩短了生产时间，降低了成本。

隔离柱5的厚度范围为100-115nm；优选的，厚度为107nm，其厚度可以与封装层的厚度一致。

封装层的外侧设有OC1胶层7、OC2胶层8以及盖板9，在发光区域外通过阳极工艺制备具有一定高度的隔离柱，防止切割时膜层破裂，保护TFE封装膜层。

隔离柱为钛铝柱体；隔离柱为锥台结构；隔离柱为一层一层制作成型的柱体结构。