[实用新型]一种气质联用仪和液质联用仪共用复合离子源

说明书

本实用新型公开了一种气质联用仪和液质联用仪共用复合离子源，包括套筒，所述套筒的外表面设置有第二开口，所述套筒的内部设置有垫块，所述垫块的右表面设置有电离块，所述电离块的外表面设置有第一开槽，所述电离块的右表面设置有电离盘，所述电离块、电离盘的内部均设置有电离管，所述电离管的外表面固定连接有第一凸块，所述电离管的外表面且位于第一凸块的右侧设置有第二凸块。本实用新型，通过设计第一凸块、第二凸块、第二开槽与第二开槽，实现在装卸时，可以通过镊子完成避免清洗完成后，遭到污染，影响装置的使用，通过设计开槽与凸块，实现在清洗使用镊子夹持吹干的过程中，气流与装置接触的面积更大，增加装置的洁净程度。

技术领域

本实用新型涉及电离技术领域，尤其涉及一种气质联用仪和液质联用仪共用复合离子源。

背景技术

离子源有效用于基片改良或溅射镀膜。离子源是利用电极和磁极形成闭环，是沿着该环使电子高速移动的结构。电子移动的闭环内由工艺室外部向其内部连续供应离子生成用气体即离子化气体。

现有的一些气质联用仪和液质联用仪共用复合离子源有以下缺陷：

1、目前气质联用仪和液质联用仪共用复合离子源清洗不方便；

2、目前气质联用仪和液质联用仪共用复合离子源需要用手进行安装，导致清洗完成后会产生污染的情况。

实用新型内容

本实用新型的目的是为了解决现有技术中存在的缺点，而提出的一种气质联用仪和液质联用仪共用复合离子源。

为了实现上述目的，本实用新型采用了如下技术方案：一种气质联用仪和液质联用仪共用复合离子源，包括套筒，所述套筒的外表面设置有第二开口，所述套筒的内部设置有垫块，所述垫块的右表面设置有电离块，所述电离块的外表面设置有第一开槽，所述电离块的右表面设置有电离盘；

所述电离块、电离盘的内部均设置有电离管，所述电离管的外表面固定连接有第一凸块，所述电离管的外表面且位于第一凸块的右侧设置有第二凸块，所述垫块的左表面设置有第二开槽。

作为上述技术方案的进一步描述：

所述第二开口的数量为多个。

作为上述技术方案的进一步描述：

所述第一凸块与第二凸块之间形成缝隙。

作为上述技术方案的进一步描述：

所述第二开口之间通过第三开口连通，所述垫块、电离块的前表面设置有金属棒，所述第三开口的宽度与金属棒的直径相同。

作为上述技术方案的进一步描述：

所述套筒的左表面设置有第一开口。

本实用新型具有如下有益效果：

1、与现有技术相比，该气质联用仪和液质联用仪共用复合离子源，通过设计第一凸块、第二凸块、第二开槽与第二开槽，实现在装卸时，可以通过镊子完成避免清洗完成后，遭到污染，影响装置的使用。

2、与现有技术相比，该气质联用仪和液质联用仪共用复合离子源，通过设计开槽与凸块，实现在清洗使用镊子夹持吹干的过程中，气流与装置接触的面积更大，增加装置的洁净程度。

附图说明

图1为本实用新型提出的一种气质联用仪和液质联用仪共用复合离子源的内部结构示意图；

图2为图1中A处结构放大示意图；

图3为本实用新型提出的一种气质联用仪和液质联用仪共用复合离子源的；

图4为本实用新型提出的一种气质联用仪和液质联用仪共用复合离子源的整体结构示意图。

图例说明：