[实用新型]一种超高压金刚石对顶砧加压装置

说明书

本申请公开了一种超高压金刚石对顶砧加压装置，包括：设置于对顶砧一侧的第一加压件，第一加压件上设有第一贯穿部和第一配合部，并形成有用于向对顶砧另一侧进行加压的第一加压面；设置于对顶砧另一侧的第二加压件，第二加压件上设有第二贯穿部和第二配合部，并形成有用于向对顶砧一侧进行加压的有第二加压面；穿过第一贯穿部，并与第二配合部配合的第一连接件；穿过第二贯穿部，并与第一配合部配合的第二连接件；同步反向旋动第一连接件和第二连接件，用于驱动第一加压件和第二加压件相互靠近或远离。该超高压金刚石对顶砧加压装置可在样品端，均匀稳定施加更大的压力，实现超高压力加载静高压实验。

技术领域

本申请一般涉及超高压测试设备领域，尤其涉及一种超高压金刚石对顶砧加压装置。

背景技术

金刚石对顶砧装置(DAC)是研究静高压的最简单高效的实验装置，通常有杠杆型和活塞圆筒型，相对而言，活塞圆筒型由于较高的稳定性和紧凑型更受研究人员欢迎。目前，最为典型的金刚石对顶砧装置是Mao-Bell类型的活塞圆筒装置，该类型装置是一种单边加压的活塞圆筒小型DAC装置，采用100～300微米压砧砧面的情况下，很容易实现一百GPa范围内的样品压力环境。

近些年来，高压超导，生命起源与高压金属氢成为高压领域的研究热点，静高压实验开始追求更高的压力极限，例如，超过400GPa，甚至500GPa的样品压力环境。采用金刚石对顶砧装置(DAC)提升压力环境只有两条路径，一为不断降低金刚石压砧的砧面直径，另外一种途径就是提升DAC装置的压力稳定性和可操作性。

传统活塞圆筒DAC装置，只有上加压螺栓，通过机械旋紧3～4枚上加压螺栓，推动套筒部分向下运动，带动内部碳化钨垫块和金刚石压砧向活塞部分的压砧位置移动，挤压两压砧之间的样品池，获得样品池内样品的高压环境。但当采用极小压砧砧面，为获得超高压环境时，金刚石压砧两侧的压力不仅更高，还需要支撑压砧的对顶砧装置两侧受力均匀，否则会导致装置发生形变，使得两个压砧的受力方向发生偏转，轻则两个压砧之间的样品无法达到所需的压力，重则直接损坏压砧，导致实验失败。而传统活塞圆筒DAC装置，由于采用单边加压驱动模式，很难实现上下压砧面压力的均匀，目前，为了提高样品环境压力，研究人员在实验中将压砧的砧面直径从300微米降到了20微米，已经逼近了压砧的制作极限。而且，单方面降低压砧直径，传统的单边加压DAC装置已经无法为这种极小砧面压砧提供可靠的对中性和压力加载稳定性。

发明内容

鉴于现有技术中的上述缺陷或不足，期望提供一种可在砧面上形成更大压力的超高压金刚石对顶砧加压装置。

具体技术方案如下：

本申请提供一种超高压金刚石对顶砧加压装置，包括：

第一加压件，所述第一加压件设置于对顶砧的一侧，所述第一加压件上设有第一贯穿部和第一配合部，并形成有用于向对顶砧另一侧进行加压的第一加压面；

第二加压件，所述第二加压件设置于对顶砧的另一侧，所述第二加压件上设有第二贯穿部和第二配合部，并形成有用于向对顶砧一侧进行加压的有第二加压面；

第一连接件，所述第一连接件穿过第一贯穿部，并与所述第二配合部配合；

第二连接件，所述第二连接件穿过第二贯穿部，并与所述第一配合部配合；

同步反向旋动所述第一连接件和所述第二连接件，用于驱动所述第一加压件和所述第二加压件相互靠近或远离。

进一步，所述第一加压件上设有轴线与所述第一加压面垂直的阶梯槽，所述阶梯槽的阶梯面用于放置样品池；

所述第二加压件上设有轴线与所述第二加压面垂直的阶梯台，所述阶梯台的外形与所述阶梯槽相应。

进一步，所述超高压金刚石对顶砧加压装置还包括设于所述第一加压件与对顶砧之间的第一垫块和设于所述第二加压件与对顶砧之间的第二垫块；