[实用新型]一种用于遮挡输送带上方釉幕的挡釉装置和淋釉装置

说明书

本实用新型公开了一种用于遮挡输送带上方釉幕的挡釉装置和淋釉装置，该输送带由多根皮带组成，该挡釉装置包括驱动件、连杆、支撑杆和多根挡釉杆；所述驱动件用于通过所述连杆和所述支撑杆驱动所述挡釉杆，使所述挡釉杆携带所述挡釉片在所述皮带上方和所述皮带下方之间往复运动，所述挡釉片靠近所述皮带时，所述挡釉片位于所述钟罩边缘的正下方，所述挡釉片远离所述皮带时，所述挡釉片位于所述输送带的下方。该挡釉装置动作灵活，在最大程度上避免对砖坯施釉操作的影响，且保证输送带仍具有适用各尺寸砖坯的输送效果。

技术领域

本实用新型涉及陶瓷生产设备，尤其涉及一种用于遮挡输送带上方釉幕的挡釉装置和淋釉装置。

背景技术

钟罩淋釉的方式是使釉浆自钟罩顶部流下在钟罩下方形成釉幕，砖坯由输送带携带经过釉幕，砖坯表面被均匀布施釉料。但是，输送带表面也会被釉料淋到，大尺寸砖坯是直接放置在输送带上的，这就导致砖坯的底面会粘有釉料。当砖坯进入窑炉后，其底面的釉料粘在窑炉辊棒上，经过一段时间后会在辊棒上形成棒钉，一方面使传动运行不平稳，致使烧成带产品造成变形、裂纹、破损等，另一方面，由于棍棒表面粘附物其热稳定性、膨胀系数与棍棒差别较大，在冷热交换时易产生应力会缩短棍棒的使用寿命，因此需经常更换辊棒。

现有技术中，为了解决上述问题，在输送带上方设置挡釉机构，如专利202020246951.8公开的一种淋釉装置，在输送带上方增加了挡釉板，挡釉板固定在机架上，在输送带上安装支架，用以增加砖坯的高度，使砖坯在挡釉板上方经过。但是，当砖坯尺寸较大时，在支架上放置的稳定性较差，会影响施釉效果，而且支架难以适应多种尺寸的砖坯，尤其砖坯尺寸小于支架时，支架也会被淋釉，砖坯底部仍然釉粘釉的可能性。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提出一种用于遮挡输送带上方釉幕的挡釉装置和淋釉装置，使挡釉片可移动，不仅有效放置釉料粘在输送带上，还能保证输送带可适用多种尺寸的砖坯。

为达此目的，本实用新型采用以下技术方案：

一种用于遮挡输送带上方釉幕的挡釉装置，该输送带由多根皮带组成，其特征在于，该挡釉装置包括驱动电机、连杆、支撑杆和多根挡釉杆；

所述连杆的一端与所述电机的输出轴固定连接，所述驱动电机驱动所述连杆在竖直平面内旋转，所述连杆的另一端与所述支撑杆的端部可转动连接；

多根所述挡釉杆并排安装于所述支撑杆，所述支撑杆和所述挡釉杆均水平设置，所述挡釉杆与所述支撑杆相互垂直；

每根所述挡釉杆均安装有挡釉片，每根所述皮带均对应有一块所述挡釉片；

所述驱动电机用于通过所述连杆和所述支撑杆驱动所述挡釉杆，所述连杆旋转带动所述支撑杆在一竖直平面内移动，使所述挡釉杆携带所述挡釉片在所述皮带上方和所述皮带下方之间往复运动。

进一步的，所述挡釉片与水平方向的夹角为30°-60°。

进一步的，所述挡釉片在水平面上的投影长度小于相邻两根皮带的间距。

进一步的，所述挡釉片的沿输送带输送方向的两侧设有向上弯折的挡边。

进一步的，所述挡釉片的底面开设有长条形的安装孔，所述安装孔用于通过螺钉使挡釉片固定于所述挡釉杆。

进一步的，用于遮挡输送带上方釉幕的挡釉装置，还包括砖坯传感器，所述砖坯传感器与所述驱动件电性连接，所述砖坯传感器用于将砖坯到达信号和砖坯离开信号发送至驱动件；

所述砖坯传感器位于所述挡釉杆的上方。

一种淋釉装置，包括钟罩、输送带和上述的用于遮挡输送带上方釉幕的挡釉装置，所述输送带由多根皮带组成，所述钟罩位于所述输送带的上方；