[实用新型]用于电容器的清洗设备

权利要求书

1.一种用于电容器的清洗设备，其特征在于，包括：

机架；

输送装置，设于所述机架上，所述输送装置包括用于承载所述电容器的移动治具，所述移动治具与所述机架相对活动设置，并沿输送路径输送所述电容器；

清洗装置，包括供水组件和多组的喷淋组件，所述供水组件分别连通于多组的所述喷淋组件，多组所述喷淋组件沿所述输送路径依次设置，并用于对所述电容器进行喷淋操作；以及

干燥装置，设于所述机架上，并沿所述输送路径设于所述清洗装置的下游，所述干燥装置用于对所述电容器进行干燥操作。

2.根据权利要求1所述的用于电容器的清洗设备，其特征在于，所述供水组件包括清洗水箱和进液泵，所述进液泵连通于所述清洗水箱，并通过管道分别多个所述喷淋组件连接，且每一个所述喷淋组件对应连接于一个所述进液泵；其中，所述清洗水箱的数量至少为一个，且其中至少一个的所述清洗水箱内设置有水路加热管，所述水路加热管用于对所述清洗水箱内的液体加热。

3.根据权利要求2所述的用于电容器的清洗设备，其特征在于，所述供水组件还包括清洗剂箱，所述清洗剂箱与至少一个所述清洗水箱连接，并用于向所述清洗水箱输送清洗液。

4.根据权利要求1所述的用于电容器的清洗设备，其特征在于，所述喷淋组件包括喷淋管和多个喷淋嘴，所述喷淋管连通于所述供水组件，多个所述喷淋嘴均设于所述喷淋管上；其中，所述喷淋组件具有喷淋位，所述喷淋位设于所述输送路径上，所述喷淋嘴的开口朝向所述喷淋位。

5.根据权利要求4所述的用于电容器的清洗设备，其特征在于，所述喷淋嘴包括上喷嘴和下喷嘴，所述上喷嘴设于所述喷淋位的上侧，所述下喷嘴设于所述喷淋位的下侧，且所述上喷嘴和所述下喷嘴分别连通于所述喷淋管。

6.根据权利要求5所述的用于电容器的清洗设备，其特征在于，所述喷淋管包括上喷管和下喷管，所述上喷管与所述下喷管平行且间隔设置，所述喷淋位位于所述上喷管和所述下喷管之间，所述上喷嘴设于所述上喷管朝向所述下喷管的一侧，所述下喷嘴设于所述下喷管朝向所述上喷管的一侧；

和/或每一个所述喷淋管上均设置至少两组所述喷淋嘴，两组所述喷淋嘴的喷淋方向之间具有夹角，且均朝向所述喷淋位。

7.根据权利要求1所述的用于电容器的清洗设备，其特征在于，所述干燥装置包括输气管和喷气组件，所述喷气组件包括多个喷气箱以及至少一个的气路加热管，所述气路加热管设于所述喷气箱内，所述喷气箱连通于所述输气管；其中，所述喷气组件具有喷气位，所述喷气位设于所述输送路径上，所述喷气箱开设有开口朝向所述喷气位的喷气槽。

8.根据权利要求7所述的用于电容器的清洗设备，其特征在于，所述喷气组件还包括气路温度传感器，所述气路温度传感器至少部分设于所述喷气箱内。

9.根据权利要求7所述的用于电容器的清洗设备，其特征在于，所述喷气箱设于所述喷气位的上侧，所述喷气组件还包括下喷箱，所述下喷箱设于所述喷气位的下侧，并用于朝向所述喷气位进行喷气。

10.根据权利要求1-9任意一项所述的用于电容器的清洗设备，其特征在于，所述清洗装置还包括回流组件，所述回流组件包括回流槽和回流水箱，所述回流槽设于所述机架上，且所述回流槽设于所述喷淋组件下侧，所述回流水箱设于所述回流槽下侧，并连接于所述回流槽。