[实用新型]一种超薄纳米晶片复合压力控制装置

权利要求书

1.一种超薄纳米晶片复合压力控制装置，包括加工台(1)，其特征在于：所述加工台(1)上表面的后侧固定连接有L形安装架(2)，所述L形安装架(2)内壁上表面的中心处固定连接有液压杆(3)，所述液压杆(3)的输出端固定连接有连接头(4)，所述连接头(4)的下表面开设有连接槽(5)，所述连接槽(5)的内壁插接有更换头(6)，所述更换头(6)的两侧中心处均开设有插槽(7)，所述连接头(4)内壁的两侧均开设有空腔(8)，两个所述空腔(8)的内壁两侧的上下表面分别均开设有开口(9)，两个所述空腔(8)内壁的两侧分别通过相应的开口(9)滑动连接有插杆(10)和推杆(11)，两个所述插杆(10)的下表面的一侧和两个推杆(11)上表面的一侧均分别开设有第一齿槽(12)和第二齿槽(13)，两个所述空腔(8)的内壁中心处均转动连接有齿轮(14)，两个所述齿轮(14)的上表面和下表面均分别与相应的第一齿槽(12)和第二齿槽(13)的内壁啮合连接，两个所述插杆(10)的相反一端均固定连接有弹簧(15)，两个所述弹簧(15)的相反一端分别与相应的空腔(8)内壁一侧上表面固定连接，所述更换头(6)的下表面固定连接有复合压板(16)。

2.根据权利要求1所述的一种超薄纳米晶片复合压力控制装置，其特征在于：两个所述插杆(10)下表面相反的一侧均固定连接有防脱块(17)，两个所述推杆(11)的相反一端均固定连接有按钮(18)。

3.根据权利要求1所述的一种超薄纳米晶片复合压力控制装置，其特征在于：所述加工台(1)上表面的中心处固定连接有防护垫(19)。

4.根据权利要求1所述的一种超薄纳米晶片复合压力控制装置，其特征在于：所述加工台(1)的下表面固定连接有放置底座柜(20)，所述放置底座柜(20)的中心处固定连接有隔板(21)。

5.根据权利要求4所述的一种超薄纳米晶片复合压力控制装置，其特征在于：所述放置底座柜(20)内壁的两侧通过隔板(21)分别设置有代加工品放置室(22)和成品放置室(23)。

6.根据权利要求5所述的一种超薄纳米晶片复合压力控制装置，其特征在于：所述代加工品放置室(22)的内壁放置有代加工放置盒(24)，所述成品放置室(23)的内壁放置有成品放置盒(25)，所述代加工放置盒(24)和成品放置盒(25)前后表面的中心处均固定连接有第一把手(26)。

7.根据权利要求4所述的一种超薄纳米晶片复合压力控制装置，其特征在于：所述隔板(21)表面的两侧均设置有磁吸条(27)，所述放置底座柜(20)表面的两侧均转动连接有箱门(28)，两个所述箱门(28)均为铁制，两个所述箱门(28)的表面均固定连接有第二把手(29)。