[实用新型]基站、清洁设备及清洁系统

权利要求书

1.一种基站(100)，其特征在于，包括：

基站本体(1)，一侧形成有放置区域，所述放置区域的一侧设有导向组件，所述导向组件适于与清洁设备(200)上的配合组件导向配合；以及

供液组件(2)，设于所述基站本体(1)上；所述供液组件(2)包括供液接头(21)，所述供液接头(21)的出液口朝向所述放置区域设置；

在所述导向组件和所述配合组件的导向配合作用下，所述出液口与所述清洁设备(200)上的连接头(51)对接连通。

2.如权利要求1所述的基站(100)，其特征在于，所述导向组件包括第一导向结构(11)，所述放置区域的至少一侧呈敞开设置，所述第一导向结构(11)包括朝向所述放置区域的敞开处凸出设置的导向凸起(111)。

3.如权利要求2所述的基站(100)，其特征在于，所述导向凸起(111)呈锥形设置，在沿所述基站本体(1)朝向所述敞开处的方向上，所述导向凸起(111)的横截面呈渐小设置。

4.如权利要求1至3中任意一项所述的基站(100)，其特征在于，所述导向组件包括第二导向结构(12)，所述第二导向结构(12)位于所述放置区域的底部，所述第二导向结构(12)适于与所述配合组件的第二配合结构(42)导向配合。

5.如权利要求4所述的基站(100)，其特征在于，所述基站本体(1)包括底座(13)、以及可拆卸设置于所述底座(13)上的清洗支架(14)，所述放置区域形成于所述底座(13)上，所述清洗支架(14)位于所述放置区域的一侧，所述第二导向结构(12)形成于所述清洗支架(14)上。

6.如权利要求5所述的基站(100)，其特征在于，所述清洗支架(14)上设置有过滤部(141)，所述放置区域可容纳所述过滤部(141)的至少部分，所述第二导向结构形成在所述过滤部(141)的顶部。

7.如权利要求6所述的基站(100)，其特征在于，所述第二导向结构(12)和所述第二配合结构(42)其中之一设置为导向凸台(121)，其中另一设置为与所述导向凸台(121)导向配合的导向滑槽(421)。

8.如权利要求7所述的基站(100)，其特征在于，所述清洗支架(14)围设于所述放置区域的一侧，所述过滤部(141)呈槽状设置、且凸出设于所述清洗支架(14)朝向所述放置区域的一侧，所述过滤部(141)的槽口朝下、且槽口处设有多个呈间隔设置的过滤条，相邻两个所述过滤条之间的间隔以形成过滤通道；

所述第二导向结构(12)设置为导向凸台，所述导向凸台呈凸出设于所述过滤部的槽底外侧。

9.如权利要求1至3中任意一项所述的基站(100)，其特征在于，还包括密封件(3)，所述密封件(3)套设于所述供液接头(21)上，且当所述清洁设备(200)停放于所述放置区域内时，所述密封件(3)内可容纳所述清洁设备(200)的连接头(51)的至少部分、并使得所述连接头(51)与所述供液接头(21)连通。

10.如权利要求1至3中任意一项所述的基站(100)，其特征在于，所述供液组件(2)还包括供液支架(22)，所述供液支架(22)与所述基站本体(1)相连接，所述基站本体(1)上设有过孔，所述供液接头(21)设于所述供液支架(22)上、且自所述过孔穿入至所述放置区域内。

11.如权利要求10所述的基站(100)，其特征在于，所述供液组件(2)还包括弹性伸缩件(23)，所述弹性伸缩件(23)的两端分别连接所述供液支架(22)和所述供液接头(21)。