[实用新型]具三维遮光层的基板有效

专利信息
申请号: 202220823630.9 申请日: 2022-04-11
公开(公告)号: CN217543463U 公开(公告)日: 2022-10-04
发明(设计)人: 许铭案 申请(专利权)人: 许铭案
主分类号: G02B6/42 分类号: G02B6/42;G03F7/00
代理公司: 北京汇泽知识产权代理有限公司 11228 代理人: 关宇辰
地址: 中国台湾新竹*** 国省代码: 台湾;71
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摘要:
搜索关键词: 三维 遮光
【权利要求书】:

1.一种具三维遮光层的基板,其特征在于,包含:

一基板;

数个光学收发元件,形成于该基板上;

一光学封装层,形成于该基板上而覆盖住各所述光学收发元件;及

一正型光阻包覆层,永久形成于该光学封装层的上方及侧边而包覆住该光学封装层而进行遮光,该正型光阻包覆层的上表面具有数个开口,个别配置于各所述光学收发元件的上方,以提供各所述光学收发元件进行发射光源与接收反射光所需的开孔。

2.如权利要求1所述的具三维遮光层的基板,其特征在于,该正型光阻包覆层配置于该光学封装层上方的部分的厚度介于5-40微米之间。

3.如权利要求1所述的具三维遮光层的基板,其特征在于,该正型光阻包覆层配置于该光学封装层侧面的部分的厚度介于2-20微米之间。

4.如权利要求1所述的具三维遮光层的基板,其特征在于,该正型光阻包覆层配置于该光学封装层上方的部分的第一厚度大于配置于该光学封装层侧面的部分的第二厚度。

5.如权利要求1所述的具三维遮光层的基板,其特征在于,该正型光阻包覆层能够隔绝的波长介于360纳米至830纳米,或830纳米至1100纳米之间,或830纳米至1200纳米之间。

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