[实用新型]一种Mask清洗设备

说明书

本实用新型公开了一种Mask清洗设备，包括机架，所述机架内部安装有升降模组，升降模组一侧安装有Mask架，机架内底部安装有清洗槽，清洗槽的侧壁安装有超声波发生器，清洗槽上侧安装有喷淋头，喷淋头一端连接有喷淋管，清洗槽底部一侧开设有排水管，机架内上部安装有烘干机构，机架上端一侧安装有排气口，本实用新型通过采用KAIJO技术超声波系统清洗，具有超声输出在洗液中周期性移动，超声功率强劲、均匀，功率更加强劲，避免超声输出不均匀而产生清洗死角现象，通过设有的Mask架，用于储放面罩，便于提高清洗的效率，而且Mask架安装在升降模组一侧，便于对Mask架进行升降调节处理，从而便于面罩的取放。

技术领域

本实用新型涉及清洗设备技术领域，具体是一种Mask清洗设备。

背景技术

清洗机，用于电子零部件、光学玻璃、半导体、LCD等在制造、使用过程中去除污染物；也可以适用电子零部件、光学玻璃、半导体、LCD等生产治具的定期维护清洗，提高清洁度，避免或减少因污染而造成的故障，从而保证所生产产品的高性能、高可靠度和长寿命。

现有技术中申请号为CN201811634729.9的一种双工位往复清洗式Mask掩膜板清洗机，包括第一清洗主体、回转机构、第二清洗主体、第二清洗主体底座、回转机构底座、旋转台、第一清洗主体底座、电气控制柜、上料车和传送带，所述第二清洗主体底座的一侧连接有回转机构底座，所述回转机构底座的一侧连接有第一清洗主体底座，所述第二清洗主体底座的顶部连接有第二清洗主体，所述回转机构底座的顶部安装有旋转台，所述旋转台的顶部安装有回转机构，所述回转机构底座的内部安装有驱动电机且驱动电机的动力输出端与回转机构相连接，本发明结构合理有效，且体积较大，对物料的清洗效率高，且清洗质量优良，适合较大体积的电镀设备的大批量清洗。但是，多个面罩堆积易造成清洗不彻底，从而影响清洗的效率，而且不便于面罩的取放。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种Mask清洗设备，以解决现有技术中多个面罩堆积易造成清洗不彻底，从而影响清洗的效率，而且不便于面罩的取放问题。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种Mask清洗设备，包括机架，所述机架内部安装有升降模组，所述升降模组一侧安装有Mask架，所述机架内底部安装有清洗槽，所述清洗槽的侧壁安装有超声波发生器，超声波发生器采用KAIJO技术超声波系统清洗，所述清洗槽上侧安装有喷淋头，所述喷淋头一端连接有喷淋管，所述清洗槽底部一侧开设有排水管，所述机架内上部安装有烘干机构，所述机架上端一侧安装有排气口。

进一步的，所述机架下侧安装有下支脚，所述下支脚下侧安装有滑轮。

进一步的，所述喷淋管一端的输水管上安装有喷淋泵，所述喷淋管的进水端还安装有过滤器。

进一步的，所述升降模组包括设置在机架内部两侧的丝杆，所述Mask架两端通过滑座与丝杆螺纹连接，所述丝杆一端通过减速齿轮组传动连接有电机。

进一步的，所述烘干机构包括设有的加热板，且加热板一侧安装有加热灯。

进一步的，所述清洗槽上侧的进出料端安装有液切风口，且液切风口对称设置有两组。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：

1、本实用新型通过清洗槽的侧壁安装有超声波发生器，超声波发生器采用KAIJO技术超声波系统清洗，具有超声输出在洗液中周期性移动，超声功率强劲、均匀，功率更加强劲，避免超声输出不均匀而产生清洗死角现象。

2、本实用新型而且通过设有的Mask架，用于储放面罩，而且能够将面罩平面铺设，防止堆积造成清洗不彻底，从而便于提高清洗的效率。