[实用新型]等离子刻蚀机台

权利要求书

1.一种等离子刻蚀机台，其特征在于，包括：

反应腔室(200)，所述反应腔室(200)具有围绕出等离子体(400)生成空间的侧壁(300)以及位于所述侧壁(300)上的顶壁；

电极基板(100)，设置在所述反应腔室(200)内且固定在所述反应腔室(200)的顶壁的底面上；

至少一个气孔(101)，贯穿所述电极基板(100)，以提供刻蚀气体注入到所述反应腔室(200)内的通道，且各个所述气孔(101)为朝向所述反应腔室(200)的所述侧壁(300)倾斜的斜孔，使所述气孔(101)输出的刻蚀气体朝向所述侧壁(300)流动且在被所述侧壁(300)反射后向着所述反应腔室(200)的底壁流动。

2.如权利要求1所述的等离子刻蚀机台，其特征在于，所述反应腔室(200)为圆筒形腔室，且其侧壁(300)的外部缠绕有环形耦合线圈。

3.如权利要求1所述的等离子刻蚀机台，其特征在于，所述气孔(101)沿所述电极基板(100)的周向排布在所述电极基板(100)上。

4.如权利要求3所述的等离子刻蚀机台，其特征在于，多个所述气孔(101)以所述反应腔室(200)的中心轴(201)为轴线，排布一圈或至少两圈。

5.如权利要求1所述的等离子刻蚀机台，其特征在于，所述气孔(101)与所述电极基板(100)的轴线之间的夹角为0-30度。

6.如权利要求1所述的等离子刻蚀机台，其特征在于，各个所述气孔(101)均布设在所述电极基板(100)的边缘区域上。

7.如权利要求1或6所述的等离子刻蚀机台，其特征在于，各个所述气孔(101)到所述侧壁(300)之间的水平距离为0-30mm。

8.如权利要求1所述的等离子刻蚀机台，其特征在于，各个所述气孔(101)为柱形孔或者内侧壁为曲面的变形孔。

9.如权利要求1所述的等离子刻蚀机台，其特征在于，还包括引流机构，设置在所述侧壁(300)上并用于引导所述反应腔室(200)内的等离子体(400)的流动方向。

10.如权利要求1所述的等离子刻蚀机台，其特征在于，还包括排气机构，连通所述反应腔室(200)且用于将所述反应腔室(200)内的气体排出。