[实用新型]一种低功耗快速晶闸管有效

专利信息
申请号: 202220943524.4 申请日: 2022-04-22
公开(公告)号: CN218730952U 公开(公告)日: 2023-03-24
发明(设计)人: 张桥;颜家圣;肖彦;刘鹏;黄智;吕晨襄 申请(专利权)人: 湖北台基半导体股份有限公司
主分类号: H01L29/06 分类号: H01L29/06;H01L29/08;H01L29/423;H01L29/74;H01L21/332
代理公司: 襄阳嘉琛知识产权事务所 42217 代理人: 严崇姚
地址: 441021 湖*** 国省代码: 湖北;42
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 功耗 快速 晶闸管
【权利要求书】:

1.一种低功耗快速晶闸管,由管壳上封接件(7)、门极组件(6)、上垫片(5)、芯片(4)、下垫片(3)和管壳下封接件(1)封装而成,所述芯片(4)为三端PNPN四层结构,包括P1阳极区(42)、N1长基区(43)、P2短基区(44)、阴极区N+(45)、阳极(A)、阴极(K)和门极,门极由中心门极(G)和放大门极(G’)构成,放大门极(G’)呈放射线型内指条形状,其特征在于:所述的中心门极(G)所在的P2短基区(44)表面、放大门极(G’)各内指条的P2短基区(44)表面、放大门极(G’)外侧的P2短基区(44)表面和芯片(4)外侧边沿处的P2短基区(44)表面设有阴极区P+层,分别构成中心门极P+区(49)、放大门极枝条P+区(470)、短路点P+区(46)和短路环区(48),阴极区P+层的结深为6-20μm;所述阳极(A)所在的P1阳极区(42)表面设有阳极区P+层(41),阳极区P+层(41)结深为8-20μm;所述P1阳极区(42)结深为40-100μm,P2短基区(44)结深为70-100μm,阴极区N+(45)结深为16-25μm。

2.根据权利要求1所述的一种低功耗快速晶闸管,其特征在于:所述的放大门极(G’)各内指条外侧设有均匀分布的放大门极短路条(8)。

3.根据权利要求1或2所述的一种低功耗快速晶闸管,其特征在于:所述的芯片(4)中P1阳极区(42)结深比P2短基区(44)结深浅31-55μm。

4.根据权利要求3所述的一种低功耗快速晶闸管,其特征在于:所述的N1长基区(43)的厚度为240-300μm,电阻率为70-130Ω•cm。

5.根据权利要求4所述的一种低功耗快速晶闸管,其特征在于:所述的下垫片(3)与芯片(4)低温焊接。

6.根据权利要求4所述的一种低功耗快速晶闸管,其特征在于:所述的下垫片(3)、上垫片(5)为钼圆片、银垫片、铜垫片、镀层钼圆片或镀层铜垫片,或为钼圆片、银垫片和铜垫片中任2种的组合。

7.根据权利要求4所述的一种低功耗快速晶闸管,其特征在于:所述的放大门极(G’)包括呈辐射状均匀分布的仿渐开线直线型内指条,各内指条呈梯形分布,且内端相互连接或内端插入并与放大门极连接。

8.根据权利要求7所述的一种低功耗快速晶闸管,其特征在于:所述的放大门极(G’)的内指条条数为4-12条。

9.根据权利要求4所述的一种低功耗快速晶闸管,其特征在于:所述的芯片(4)台面为双负角台面造型或正、负角结构。

10.根据权利要求2所述的一种低功耗快速晶闸管,其特征在于:所述的放大门极短路条为正四边形、正三角形或圆环形排列。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于湖北台基半导体股份有限公司,未经湖北台基半导体股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202220943524.4/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top