[实用新型]一种降低热应力影响的半导体制冷片有效
申请号: | 202221093219.7 | 申请日: | 2022-05-09 |
公开(公告)号: | CN217541126U | 公开(公告)日: | 2022-10-04 |
发明(设计)人: | 陈天顺 | 申请(专利权)人: | 鹏南科技(厦门)有限公司 |
主分类号: | F25B21/02 | 分类号: | F25B21/02 |
代理公司: | 厦门市宽信知识产权代理有限公司 35246 | 代理人: | 李财龙 |
地址: | 361000 福建省厦门市翔安区厦*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 降低 应力 影响 半导体 制冷 | ||
1.一种降低热应力影响的半导体制冷片,其特征在于,包括第一基板、第二基板、导电线和多个晶粒,第一基板与导电线连接,所述第一基板和第二基板相对设置,晶粒在第二基板和第一基板之间阵列分布,阵列分布的多个晶粒中,远离导电线的边角上的晶粒为支撑晶粒,其余晶粒为导电晶粒,所述第一基板和第二基板上均设有与每列导晶粒相对应的导电片,同一列中的晶粒通过导电片相互串联,所述第一基板和第二基板上设有导电连接片,相邻两列晶粒的两端通过导电连接片相互串联,所述第一基板和第二基板与支撑晶粒位置相对应处均设有支撑导片,所述支撑晶粒的两端面与支撑导片相焊接。
2.如权利要求1所述的降低热应力影响的半导体制冷片,其特征在于,阵列分布的多个晶粒中,远离导电线的边角上设有两个所述支撑晶粒。
3.如权利要求2所述的降低热应力影响的半导体制冷片,其特征在于,所述支撑导片连接相邻的两个支撑晶粒。
4.如权利要求1所述的降低热应力影响的半导体制冷片,其特征在于,所述支撑晶粒的数量为两个,两个支撑晶粒分别位于远离导电线的侧边的两端上。
5.如权利要求4所述的降低热应力影响的半导体制冷片,其特征在于,所述支撑晶粒的两端面设有绝缘层,所述第二基板上的支撑导片与相邻的连接片为一体结构,形成L型导片,所述绝缘层与L型导片相连接,所述第一基板上的支撑导片与支撑晶粒相对应。
6.如权利要求1所述的降低热应力影响的半导体制冷片,其特征在于,所述第一基板和第二基板均为陶瓷板,所述导电片、连接片和支撑导片均为铜片。
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