[实用新型]一种掩模版mura标定装置

说明书

本实用新型公开了一种掩模版mura标定装置，包括基座、掩膜版支架、观测镜组件、光源组件、第一定位光栅、第二定位光栅、第三定位光栅、第四定位光栅，观测镜组件包括观测镜、观测镜支架、第一双轴倾角传感器、第一万向铰链，光源组件包括照明光源、光源支架、第二双轴倾角传感器、第二万向铰链，第二双轴倾角传感器固定设置在照明光源上，照明光源通过第二万向铰链与光源支架相连接，光源支架的两端分别与基座、掩膜版支架固定连接。本实用新型所提出的一种掩模版mura标定装置，结构简单，实现了对于mura现象的位置准确标定和准确重现功能，便于与设计图形作对比，以及作进一步分析，提高掩模版生产质量。

技术领域

本实用新型属于光刻技术领域，具体是一种掩模版mura标定装置。

背景技术

MURA是一种用于描述显示器件的观察平面上呈现的不均匀性的总称。当光学设备将设计图形转换成显示器件上的物理图像时，由于制作过程中设备的限制和环境的扰动，使这些图像的大小或者位置或者边缘粗糙度在微观上形成一些纳米级别的不规则变化，这些不规则在宏观视觉上有时会形成与原设计的预期不一致的光学特征，这是MURA现象的成因。

在生产上，需要对MURA进行品质控制，目前在产线上均有技术员去检测判定mura，主要有两种方式：一种是把掩膜版静置在搁架上，手持射灯，移动射灯和人眼的位置及角度位置和人眼观察角度来进行观测；另一种是固定射灯位置，手持掩模版，以不同角度观察掩模版表面图像，这种方法受版材尺寸和重量的限制。这两种方法均为人手直接操作，对实际mura的判断相当取决于操作者本人的经验和技巧，结果往往有一定的主观性，也往往很费时费力，还容易造成误判。对于较细微的差异，有时会因观察者操作角度的细微差异，不同的人员会有不同的判断，给品质管控带来很大的困扰。

发明内容

本实用新型的目的在于提供一种掩模版mura标定装置，以解决上述背景技术中提出的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：

一种掩模版mura标定装置，包括基座、掩膜版支架、观测镜组件、光源组件、第一定位光栅、第二定位光栅、第三定位光栅、第四定位光栅，掩膜版支架固定设置在基座上，掩膜版支架整体呈中空框架状，掩膜版支架的底框开有用于对掩膜版进行限位固定的长条形凹槽；观测镜组件包括观测镜、观测镜支架、第一双轴倾角传感器、第一万向铰链，第一双轴倾角传感器与观测镜固定连接，观测镜通过第一万向铰链与观测镜支架相连接，观测镜支架固定设置在掩膜版支架上；光源组件包括照明光源、光源支架、第二双轴倾角传感器、第二万向铰链，第二双轴倾角传感器固定设置在照明光源上，照明光源通过第二万向铰链与光源支架相连接，光源支架的两端分别与基座、掩膜版支架固定连接；第一定位光栅固定设置在掩膜版支架的顶框，第二定位光栅固定设置在掩膜版支架的底框，第三定位光栅固定设置在观测镜支架上，第四定位光栅固定设置在光源支架上。

采用本实用新型所提供的技术方案，第一定位光栅、第三定位光栅为观测镜建立xy坐标系统提供定位，第二定位光栅、第四定位光栅为光源建立xy坐标系统提供定位；在观测镜和光源上分别安装双轴倾角仪，以便对它们的工作角度进行实时测量；使用时，掩膜版放置入掩膜版支架的长条形凹槽，操作员通过调整光源和观测镜位置识别出mura现象后，光源和观测镜的坐标和倾角可即时从电脑读取和记录；再次检查时，可根据记录数据复原装置的状态，以达到再现mura现象的目的。

本实用新型进一步改进，观测镜支架上、光源支架上分别设置有导轨，第一万向铰链的一端、第二万向铰链的一端分别设置有滑块，滑块卡接在导轨；以使得观测镜和光源可在观测镜支架上、光源支架上滑移，提供标定灵活性和使用范围。

本实用新型所提出的一种掩模版mura标定装置，结构简单，实现了对于mura现象的位置准确标定和准确重现功能，便于与设计图形作对比，以及作进一步分析，提高掩模版生产质量。