[实用新型]磁流变抛光液磁力修整器

说明书

本实用新型提供磁流变抛光液磁力修整器，属于磁流变抛光技术领域，包括：盘式修整机构通过第一转盘和第二转盘的转动带动第一永磁体以垂直于第一转盘和第二转盘的盘面的轴转动；带传动机构驱动盘式修正机构的第一转盘的转动；第一转盘的转动通过齿轮传动机构带动盘式修正机构的第二转盘转动；带传动张紧机构调节带传动机构的传动带的张紧程度；轴式修整机构通过转轴的转动带动第二永磁体围绕转轴的中心轴转动。本实用新型可以修整磁流变抛光液对磁流变抛光液进行刮平，适应不同加工参数下的磁流变抛光液，适应不同抛光盘转速及磁流变抛光液的量的变化；便于拆卸及组装，永磁体运动由磁流变抛光机的抛光盘带动，体积小、适用性强、运行成本低、修整效果好。

技术领域

本实用新型涉及磁流变抛光技术领域，具体涉及一种针对平面式磁流变抛光过程中磁流变抛光液的团聚、沉降、固化以及板结等现象的磁流变抛光液磁力修整器。

背景技术

磁流变抛光是一种柔性纳米精加工工艺，由于其具有抛光后工件表面精度高、亚表面损伤低等方面的优势，被广泛应用于加工无缺陷表面、半导体晶圆等具有高精密抛光要求的对象。磁流变抛光液是MRF的关键，其本质为多相颗粒与基液的分散体系，受磁场作用抛光液中的铁磁颗粒和磨粒难以避免地会出现团聚及沉降，在一些应用场合甚至会出现固化、板结等现象。这些都会在很大程度上影响磁流变抛光液的性能，从而进一步影响抛光效率与抛光质量。因此，在磁流变抛光过程中，必须对抛光液进行修整重分散，其不但能够提高抛光液的利用率，还能提高抛光效率和抛光质量，甚至实现高效可持续抛光。

目前的磁流变抛光装置是借助循环系统对抛光液进行修整。作为磁流变抛光装备的重要组成部分，循环系统通过将离开抛光区的磁流变抛光液回收并搅拌，之后再一次投入使用，以达到修整抛光液的目的。然而由于磁流变抛光液流动黏度较高，难以完全将其回收，且使用循环系统易造成管路堵塞、抛光液流量不稳定等问题，同时，循环系统较为复杂、占用较大空间。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种磁流变抛光液磁力修整器，以解决上述背景技术中存在的至少一项技术问题。

为了实现上述目的，本实用新型采取了如下技术方案：

本实用新型提供一种磁流变抛光液磁力修整器，包括：

盘式修整机构，包括第一转盘和第二转盘，第一转盘和第二转盘的转动带动第一永磁体以垂直于第一转盘和第二转盘的盘面的轴转动；

带传动机构，所述带传动机构驱动盘式修正机构的第一转盘的转动；第一转盘的转动通过齿轮传动机构带动盘式修正机构的第二转盘转动；

所述带传动机构连接有带传动张紧机构，所述带传动张紧机构调节带传动机构的传动带的张紧程度；

轴式修整机构，所述轴式修整机构通过转轴的转动带动第二永磁体围绕转轴的中心轴转动。

优选的，还包括挡板，挡板与抛光机基座和钣金支架配合，钣金支架固定在抛光机上。

优选的，所述盘式修整机构包括第一转盘和第二转盘，第一转盘和第二转盘上均设有固定第一永磁体的固定槽，第一转盘设带传动所用的带槽。

优选的，所述齿轮传动机构包括第一齿轮、第二齿轮、第三齿轮、第四齿轮；第二齿轮通过第一转盘上的两个圆凸台固定在第一转盘上；第一齿轮通过第二转盘上的两个圆凸台固定在第二转盘上；第三齿轮和第四齿轮分别与第二齿轮和第一齿轮啮合。

优选的，所述带传动机构包括位于抛光盘的中心轴上的轴套式带轮和传动带；轴套式带轮通过键连接于抛光盘的中心轴上的限位凸台，轴套式带轮将抛光盘的动力通过传动带传给第一转盘。

优选的，所述带传动张紧机构包括张紧轮及张紧轮座；张紧轮固定在张紧轮座上，张紧轮座设于轴式修整机构的内侧的第一轴承座上；张紧轮与传动带配合。