[实用新型]一种钙钛矿薄膜的制备装置

说明书

本实用新型提供了一种钙钛矿薄膜的制备装置，该制备装置针对各种不同种类的反溶剂，可以同时采用小口径的管口或是大口径的管口来控制不一样的滴加时间；在相同体积的反溶剂的量下，大口径的管口可以实现快速滴加，而小口径的管口则实现慢速滴加的效果；即该制备装置即可实现两种或多种操作，避免现有技术中频繁更换移液枪枪头，且无法保证这些枪头使用前剪掉的口径大小一致的情况发生，总的来说该制备装置便可有效减少钙钛矿薄膜制备过程中的工作量且实验操作可重复性高，制作的同一批次的钙钛矿薄膜的差异较小。

技术领域

本实用新型涉及半导体器件技术领域，更具体地说，涉及一种钙钛矿薄膜的制备装置。

背景技术

相对二步法制备钙钛矿光敏活性膜层而言，一步溶液旋涂法结合反溶剂策略可以更便捷地获得表面缺陷及针孔更少的钙钛矿活性膜层；但是针对不同的反溶剂，快速滴加与较慢滴加会对最终的活性膜层造成显著的差别。

譬如，在文献“A general approach to high-efficiency perovskite solarcells by any antisolvent”中，作者将常用的反溶剂概括为三类：一类反溶剂如乙醇、异丙醇等，实验结果证明快速(低落时间约为0.18s)滴加效果更好；二类反溶剂如氯苯、邻二氯苯、苯甲醚等，滴加速率对最终活性膜层影响甚微；三类反溶剂如加班、邻二甲苯、均三甲苯等，以较慢(低落时间约为1.3s)速率滴加效果更好。

目前现有技术中，对滴加速率的控制是通过使用口径不一样的移液枪枪头实现的，比如同样是200uL的反溶剂体积，使用量产为250uL与1000uL的枪头便可达到不同溶剂彻底滴落的时间，从而实现快速以及慢速滴加反溶剂的效果。

但是，在应用反溶剂制备钙钛矿薄膜的过程中，太快滴加会造成有效物质过早析出，太晚滴加不利于获得晶粒尺寸合适的钙钛矿薄膜，这些均会影响最终器件的性能，因此如何在有效控制滴加速率的情况下，简化工艺技术是本领域技术人员亟待解决的技术问题。

基于使用口径不等的移液枪枪头控制反溶剂滴加速率的方案而言，这些移液枪枪头端在使用前基本均要进行裁剪一部分以增加溶剂滴加的流速，加之人工裁剪也无法保证每只枪头的缺口大小一致，从而确保同一条件下做出的钙钛矿薄膜相似，导致可重复性较低，并且在具体实际操作时不可避免的需要频繁的更换移液枪，显然会大大增加工作量；尤其是对于探究若干不同反溶剂优化钙钛矿薄膜制备的实验时更是如此。

因此，如何在有效控制滴加速率的情况下，简化工艺技术是本领域技术人员亟待解决的技术问题。

实用新型内容

有鉴于此，为解决上述问题，本实用新型提供一种钙钛矿薄膜的制备装置，技术方案如下：

一种钙钛矿薄膜的制备装置，所述制备装置包括：

容器，所述容器包括盖板以及腔体，所述腔体用于盛放反溶剂，所述腔身包括一个开口，所述盖板用于覆盖所述开口；

多个管道，所述管道的第一端通过所述盖板位于所述腔体的内部，所述管道的第二端位于所述腔体的外部；

多个不同口径的管口，所述管口与所述管道的第二端连接。

优选的，在上述制备装置中，所述管道为U型管道。

优选的，在上述制备装置中，所述管道为软型胶管。

优选的，在上述制备装置中，所述制备装置还包括：

位于所述管道第二端处的阀门。

优选的，在上述制备装置中，所述盖板上具有多个通孔，所述管道的第一端通过所述通孔位于所述腔体的内部。

优选的，在上述制备装置中，所述制备装置还包括：

位于所述通孔内壁的旋转组件；