[实用新型]一种CCM膜电极的转印涂布设备有效
| 申请号： | 202221525036.8 | 申请日： | 2022-06-17 |
| 公开（公告）号： | CN217589024U | 公开（公告）日： | 2022-10-14 |
| 发明（设计）人： | 吴欣欣;晁威 | 申请（专利权）人： | 未势能源科技有限公司 |
| 主分类号： | H01M8/1004 | 分类号： | H01M8/1004;H01M4/88 |
| 代理公司： | 北京远智汇知识产权代理有限公司 11659 | 代理人： | 于丽平 |
| 地址： | 201800 上海市*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 ccm 电极 转印涂 布设 | ||
1.一种CCM膜电极的转印涂布设备，其特征在于，包括：
涂布头(100)，所述涂布头(100)用于将催化层(10)涂布于涂布辊(200)上；
涂布辊(200)，涂布有所述催化层(10)的所述涂布辊(200)抵接于质子交换膜(20)的一侧面上，所述涂布辊(200)能够以第一预设温度加热所述催化层(10)；
压合辊(300)，所述压合辊(300)与所述涂布辊(200)相对设置并抵接于所述质子交换膜(20)的另一侧面上，所述压合辊(300)能够向所述涂布辊(200)施加压力并将所述涂布辊(200)上的所述催化层(10)转印至所述质子交换膜(20)上，所述压合辊(300)能够以第二预设温度加热所述质子交换膜(20)；
清洁装置，所述清洁装置抵接于所述涂布辊(200)，能够在所述涂布辊(200)将所述催化层(10)涂布于所述质子交换膜(20)后清洁所述涂布辊(200)。
2.根据权利要求1所述的CCM膜电极的转印涂布设备，其特征在于，所述清洁装置包括清洁辊(400)，所述清洁辊(400)位于所述涂布辊(200)与转印有所述催化层(10)的所述质子交换膜(20)之间，所述清洁辊(400)抵接于所述涂布辊(200)，所述清洁辊(400)与所述涂布辊(200)长度相等。
3.根据权利要求1所述的CCM膜电极的转印涂布设备，其特征在于，所述涂布辊(200)外包覆有离型层。
4.根据权利要求3所述的CCM膜电极的转印涂布设备，其特征在于，所述离型层由PTFE膜、PET膜和PI膜中的任一种制成。
5.根据权利要求1所述的CCM膜电极的转印涂布设备，其特征在于，所述CCM膜电极的转印涂布设备还包括收卷装置，所述收卷装置用于将转印后的所述质子交换膜(20)收卷，并为所述质子交换膜(20)的运动提供动力。
6.根据权利要求1所述的CCM膜电极的转印涂布设备，其特征在于，所述涂布辊(200)的直径、转速和所述第一预设温度满足当所述涂布头(100)将所述催化层(10)涂布到所述涂布辊(200)上后，在所述涂布辊(200)上的所述催化层(10)与所述质子交换膜(20)接触时，所述催化层(10)已经被干燥。
7.根据权利要求1-6任意一项所述的CCM膜电极的转印涂布设备，其特征在于，所述涂布辊(200)内设置有第一加热装置，所述第一预设温度取值范围为40℃-150℃。
8.根据权利要求1-6任意一项所述的CCM膜电极的转印涂布设备，其特征在于，所述压合辊(300)内设置有第二加热装置，所述第二预设温度取值范围为100℃-160℃。
9.根据权利要求1-6任意一项所述的CCM膜电极的转印涂布设备，其特征在于，所述压合辊(300)施加压力的取值范围为80kg-160kg。
10.根据权利要求1-6任意一项所述的CCM膜电极的转印涂布设备，其特征在于，所述涂布辊(200)、所述压合辊(300)与所述质子交换膜(20)的运动速度相同。
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