[实用新型]一种光展量扩充器及近眼投影系统

权利要求书

1.一种光展量扩充器，其特征在于，包括：空间光调制器(20)和混沌超表面(30)，所述混沌超表面(30)包括基底(301)和位于所述基底(301)一侧的多个纳米结构(302)，多个所述纳米结构(302)周期性排列；所述纳米结构(302)用于调制相位，且调制不同相位的所述纳米结构(302)随机分布；

所述空间光调制器(20)用于发出成像光线；

所述混沌超表面(30)位于所述空间光调制器(20)的出光侧，用于对所述空间光调制器(20)发出的成像光线进行相位调制；

所述混沌超表面(30)的像素单元的周期小于所述空间光调制器(20)的像素单元的周期，所述混沌超表面(30)的像素单元包括至少一个所述纳米结构(302)。

2.根据权利要求1所述的光展量扩充器，其特征在于，所述混沌超表面(30)的像素单元的周期小于或等于所述空间光调制器(20)的像素单元的周期的一半。

3.根据权利要求1所述的光展量扩充器，其特征在于，所述混沌超表面(30)的像素单元数量大于或等于所述空间光调制器(20)的像素单元数量。

4.根据权利要求3所述的光展量扩充器，其特征在于，所述混沌超表面(30)包括多个相位调制器(31)，多个所述相位调制器(31)按阵列方式共面排列；每个所述相位调制器(31)中不同相位的所述纳米结构(302)随机分布；

每个所述相位调制器(31)的像素单元数量均大于或等于所述空间光调制器(20)的像素单元数量。

5.根据权利要求1所述的光展量扩充器，其特征在于，

所述空间光调制器(20)的像素单元的周期小于或等于30μm；和/或

所述空间光调制器(20)的像素单元数量大于或等于480000。

6.根据权利要求1所述的光展量扩充器，其特征在于，所述空间光调制器(20)用于对多种波长进行相位调制，且对不同波长的相位调制不同。

7.根据权利要求1所述的光展量扩充器，其特征在于，所述混沌超表面(30)的外形能够覆盖所述空间光调制器(20)所衍射的成像光线在所述混沌超表面(30)所在位置处形成的衍射范围。

8.根据权利要求1所述的光展量扩充器，其特征在于，所述空间光调制器(20)为透射式的空间光调制器或反射式的空间光调制器。

9.根据权利要求1所述的光展量扩充器，其特征在于，所述空间光调制器(20)与所述混沌超表面(30)之间的距离小于或等于所述空间光调制器(20)最大边长的十倍。

10.根据权利要求1-9任意一项所述的光展量扩充器，其特征在于，所述基底(301)在工作波段透明。

11.根据权利要求1-9任意一项所述的光展量扩充器，其特征在于，所述混沌超表面(30)还包括：反射层(303)；

所述反射层(303)位于所述基底(301)靠近所述空间光调制器(20)的一侧，多个所述纳米结构(302)周期性排列在所述反射层(303)远离所述基底(301)的一侧。

12.一种近眼投影系统，其特征在于，包括：如权利要求1-8、10-11任意一项所述的光展量扩充器、光源(10)和中继系统(40)；

所述光源(10)用于发出光线；

所述光展量扩充器位于所述光源(10)的出光侧，且所述光展量扩充器的混沌超表面(30)位于所述光展量扩充器的空间光调制器(20)远离所述光源(10)的一侧；

所述中继系统(40)位于所述空间光调制器(20)远离所述光源(10)的一侧，用于对所述空间光调制器(20)发出的成像光线进行整形。