[实用新型]光学系统及包含其的成像装置和电子设备

权利要求书

1.一种光学系统，其特征在于，所述光学系统包括沿物方到像方依次分布的第一透镜(10)、第二透镜(20)、第三透镜(30)、第四透镜(40)、第五透镜(50)和第六透镜(60)；

其中，所述第一透镜(10)为非球面折射透镜；所述第二透镜(20)为超透镜；其余透镜均为折射透镜，并且，第三透镜(30)、第四透镜(40)、所述第五透镜(50)和所述第六透镜(60)的所有表面中包括至少一个非球面，所述非球面包含一个反曲点；

所述第一透镜(10)具有正光焦度，并且所述第一透镜(10)的物侧表面为凸面；所述第三透镜(30)的像侧表面为凸面；所述第四透镜(40)的物侧表面为凹面；所述第五透镜(50)和所述第六透镜(60)的物侧表面的曲率半径均为负；

所述光学系统至少满足如下关系：

f/EPD3；

25°≤HFOV≤55°；

0.05mm≤d₂≤2mm；

|f₂|/f≥10；

其中，f为所述光学系统的焦距；EPD为所述光学系统的入瞳直径；HFOV为所述光学系统的最大视场角的二分之一；d₂为所述第二透镜(20)的厚度；f₂为所述第二透镜(20)的焦距。

2.如权利要求1所述的光学系统，其特征在于，所述光学系统还满足关系：

0.35≤R_1o/f₁≤0.58；

其中，R_1o为所述第一透镜(10)的物侧表面的曲率半径；f₁为所述第一透镜(10)的焦距。

3.如权利要求1所述的光学系统，其特征在于，所述光学系统还满足：

(V₁+V₄)/2-V₃20；

其中，V₁为所述第一透镜(10)的阿贝数；V₃为所述第三透镜(30)的阿贝数；V₄为所述第四透镜(40)的阿贝数。

4.如权利要求1所述的光学系统，其特征在于，所述光学系统还满足：

0.55ImgH/TTL0.82；

其中，ImgH为所述光学系统的最大成像高度；TTL为所述第一透镜(10)的物侧表面到所述光学系统成像面的距离。

5.如权利要求1所述的光学系统，其特征在于，所述光学系统还满足：所述第四透镜(40)的像侧表面为凹面，并且，

R_4i×R_4o0；

其中，R_4o为所述第四透镜(40)的物侧表面的曲率半径；R_4i为所述第四透镜(40)的像侧表面的曲率半径。

6.如权利要求1所述的光学系统，其特征在于，所述第五透镜(50)的像侧表面的曲率半径均小于零。

7.如权利要求1所述的光学系统，其特征在于，所述光学系统还满足：

0.58≤f₁/f≤0.85；

其中，f₁为所述第一透镜(10)的焦距；f为所述光学系统的焦距。

8.如权利要求1所述的光学系统，其特征在于，所述第三透镜(30)、所述第四透镜(40)、所述第五透镜(50)和所述第六透镜(60)中的任意一个或多个为非球面折射透镜。

9.如权利要求1-8中任一所述的光学系统，其特征在于，所述超透镜包括基底层(201)和至少一层设置于所述基底层(201)一侧的纳米结构层(202)；

其中，任一层所述纳米结构层(202)包括周期性排列的纳米结构(2021)；

所述基底层(201)和所述纳米结构层(202)被配置为能够透过所述光学系统的工作波段的辐射。