[实用新型]电极装置及石墨烯薄膜制备系统

权利要求书

1.一种电极装置，其特征在于，包括：

支撑件，所述支撑件设置成用于支撑氧化石墨烯薄膜；

固定件，所述固定件连接在所述支撑件上，所述支撑件与所述固定件之间形成用于固定所述氧化石墨烯薄膜的还原空间，所述支撑件与所述固定件中的至少一者与所述氧化石墨烯薄膜之间为面接触。

2.根据权利要求1所述的电极装置，其特征在于，所述支撑件为板状件，所述支撑件与所述氧化石墨烯薄膜之间为面接触。

3.根据权利要求1所述的电极装置，其特征在于，所述固定件为网格板状件，所述固定件与所述氧化石墨烯薄膜之间为多点接触。

4.根据权利要求1所述的电极装置，其特征在于，所述支撑件和所述固定件均为钛材质。

5.根据权利要求1所述的电极装置，其特征在于，所述固定件活动连接在所述支撑件上，所述还原空间设置成适配所述氧化石墨烯薄膜的厚度和数量。

6.根据权利要求1所述的电极装置，其特征在于，所述电极装置还包括连接件，所述固定件通过所述连接件活动连接在所述支撑件上。

7.根据权利要求6所述的电极装置，其特征在于，所述电极装置包括至少三个连接件，所述至少三个连接件间隔均匀使所述固定件活动连接在所述支撑件上。

8.根据权利要求6所述的电极装置，其特征在于，所述连接件为聚四氟螺丝或金属螺丝。

9.一种石墨烯薄膜制备系统，包括权利要求1-8任一项所述的电极装置，其特征在于，还包括电源和氧化石墨烯薄膜，所述电极装置与所述电源的负极相连，所述氧化石墨烯薄膜放置于所述还原空间内。

10.根据权利要求9所述的石墨烯薄膜制备系统，其特征在于，所述还原空间内设置有至少一张所述氧化石墨烯薄膜。

11.根据权利要求9所述的石墨烯薄膜制备系统，其特征在于，所述固定件和所述支撑件中的至少一者的尺寸大于所述氧化石墨烯薄膜的尺寸。