[实用新型]一种光刻胶混配过滤供应设备有效

专利信息
申请号: 202221839840.3 申请日: 2022-07-15
公开(公告)号: CN218688932U 公开(公告)日: 2023-03-24
发明(设计)人: 王志祥 申请(专利权)人: 黄冈斯坦本新材料科技有限公司
主分类号: B01F33/83 分类号: B01F33/83;B01F23/80;B01D29/56;B01F101/36
代理公司: 武汉智嘉联合知识产权代理事务所(普通合伙) 42231 代理人: 孙迪
地址: 438000 湖北省黄冈市黄州区*** 国省代码: 湖北;42
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摘要:
搜索关键词: 一种 光刻 胶混配 过滤 供应 设备
【说明书】:

实用新型公开一种光刻胶混配过滤供应设备,包括加工组件、驱动组件、混料组件和过滤组件,所述加工组件包括加工箱,所述加工箱上开设有料孔;所述驱动组件包括驱动部、螺旋叶片和粉碎刀片;所述驱动部设置于所述加工箱上方,其动力输出端贯穿所述加工箱并延伸至所述混料组件内;所述螺旋叶片和所述粉碎刀片从下至上连接在所述动力输出端上;所述混料组件包括内壳体;所述内壳体固定于所述加工箱内,所述内壳体上端开设有供所述动力输出端贯穿的通孔。解决现有技术中光刻胶过滤设备,仅仅只具备简单的过滤功能,无法使其原料进行充分混合后过滤,影响了产品质量的同时,提高了生产成本的技术问题。

技术领域

本实用新型涉及光刻胶供应设备技术领域,具体涉及为一种光刻胶混配过滤供应设备。

背景技术

集成电路(IC)制造中,需要将掩膜母版上的几何图形先转移到基片表面的光刻胶胶膜上,然后再通过从曝光到蚀刻等一系列处理技术把光刻胶膜上的图像复制到衬底基片表面并形成永久性图形;其中典型的微细加工过程包括基片预处理、涂胶、前烘、曝光、显影、清洗、后烘、蚀刻和去胶;

在中国实用新型CN215692350U提出“一种光刻胶过滤装置”,为了提高光刻胶的产品质量,将光刻胶从进料管投放到处理箱中,通过过滤板对光刻胶中的杂质进行阻挡过滤,而此时通过驱动组件可以带动挤压组件在处理箱中上下移动,通过气压对过滤板上的光刻胶进行挤压,使胶状的光刻胶能够便于穿过过滤板进行过滤,而通过第二电机可以带动过滤板来回小幅度的翻动,让光刻胶可以在过滤板上来回滑动处于流动状态,便于光刻胶能够均匀的铺满过滤板,被过滤的更加均匀彻底;但是该装置,仅仅只具备对胶体内部进行过滤的功能,但实质有些杂质,在经过打碎后,能够与胶体融为一体,这样就导致该装置不能对物料进行充分利用,一定程度上,提高了生产成本。

为此,我们提出一种光刻胶混配过滤供应设备。

实用新型内容

本实用新型的目的在于克服上述技术不足,提供一种光刻胶混配过滤供应设备,解决现有技术中光刻胶过滤设备,仅仅只具备简单的过滤功能,无法使其原料进行充分混合后过滤,影响了产品质量的同时,提高了生产成本的技术问题。

为达到上述技术目的,本实用新型采取了以下技术方案:

一种光刻胶混配过滤供应设备,包括加工组件、驱动组件、混料组件和过滤组件;

所述加工组件包括加工箱,所述加工箱上开设有料孔;

所述驱动组件包括驱动部、螺旋叶片和粉碎刀片;所述驱动部设置于所述加工箱上方,其动力输出端贯穿所述加工箱并延伸至所述混料组件内;所述螺旋叶片和所述粉碎刀片从下至上连接在所述动力输出端上;

所述混料组件包括内壳体;所述内壳体固定于所述加工箱内,所述内壳体上端开设有供所述动力输出端贯穿的通孔;所述内壳体的下端设有开口,位于所述内壳体的外周面周向开设有出料孔;

所述过滤组件安装于所述内壳体外周面并位于所述出料孔的下方,所述过滤组件远离所述内壳体的一面连接在所述加工箱内壁。

优选的,所述加工组件还包括连接柱;所述连接柱的一端固定在所述加工箱内顶面,所述连接柱的另一端固定在所述内壳体上,所述内壳体的下端与所述加工箱的内底面保持间隙。

优选的,所述加工组件还包括导流块和限流块;所述导流块周向连接于所述加工箱的内底面,并与所述内壳体保持间隙;所述限流块周向固定于所述内壳体外周面并位于所述出料孔的上方。

优选的,所述驱动部包括电机和轴体;所述电机安装于所述加工箱顶部;所述轴体一端连接在所述电机输出端上,另一端贯穿所述加工箱并延伸至所述内壳体内部;位于所述内壳体内且在所述轴体上从下至上依次固定有所述螺旋叶片和粉碎刀片。

优选的,所述内壳体的内壁周向固定有若干与所述粉碎刀片配合的副刀片。

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