[实用新型]一种真空镀膜系统

权利要求书

1.一种真空镀膜系统，其特征在于，包括：

镀膜腔(100)和搬运腔(200)，所述镀膜腔(100)用于镀膜，所述搬运腔(200)用于盛放膜料承载件(1)，所述膜料承载件(1)上设置有多个承载位(11)，所述镀膜腔(100)内设置有镀膜位(110)；

输送装置(2)，能将所述搬运腔(200)的所述膜料承载件(1)输送至所述镀膜腔(100)，并将所述承载位(11)依次输送至所述镀膜位(110)；

冷却装置(3)，设置于所述镀膜腔(100)，用于冷却置于所述镀膜腔(100)的所述膜料承载件(1)。

2.根据权利要求1所述的真空镀膜系统，其特征在于，所述输送装置(2)包括设置于所述搬运腔(200)的直线模组(21)，所述直线模组(21)上设置有与所述膜料承载件(1)连接的推送件(22)，所述直线模组(21)能驱动所述推送件(22)移动。

3.根据权利要求2所述的真空镀膜系统，其特征在于，所述直线模组(21)包括直线驱动件(211)、直线导轨(212)和设置于所述直线导轨(212)上的滑块(213)，所述直线驱动件(211)能驱动所述滑块(213)在所述直线导轨(212)上移动，所述推送件(22)设置于所述滑块(213)上。

4.根据权利要求3所述的真空镀膜系统，其特征在于，所述输送装置(2)还包括支撑导轨(23)，所述支撑导轨(23)与所述直线导轨(212)的延伸方向相同，所述膜料承载件(1)滑动设置于所述支撑导轨(23)上。

5.根据权利要求4所述的真空镀膜系统，其特征在于，所述支撑导轨(23)上设置有调节导轮(231)，所述调节导轮(231)用于调节所述膜料承载件(1)的水平度。

6.根据权利要求2所述的真空镀膜系统，其特征在于，所述膜料承载件(1)上设置有定位孔(121)，所述推送件(22)上设置有插销(221)，所述插销(221)能置于所述定位孔(121)内。

7.根据权利要求1-6任一项所述的真空镀膜系统，其特征在于，所述冷却装置(3)包括镀膜位冷却机构(31)和非镀膜位冷却机构(32)，所述镀膜位冷却机构(31)用于冷却置于所述镀膜位(110)的所述承载位(11)，所述非镀膜位冷却机构(32)用于冷却经过所述镀膜位(110)的所述承载位(11)。

8.根据权利要求7所述的真空镀膜系统，其特征在于，所述非镀膜位冷却机构(32)包括非镀膜位上冷却组件(321)和非镀膜位下冷却组件(322)，所述非镀膜位上冷却组件(321)位于所述膜料承载件(1)的上方，所述非镀膜位下冷却组件(322)位于所述膜料承载件(1)的下方。

9.根据权利要求1-6任一项所述的真空镀膜系统，其特征在于，所述冷却装置(3)可升降设置，当所述冷却装置(3)与所述膜料承载件(1)抵接，以冷却所述膜料承载件(1)。

10.根据权利要求1-6任一项所述的真空镀膜系统，其特征在于，所述镀膜腔(100)和所述搬运腔(200)之间设置有真空阀门(300)和旁通阀，所述旁通阀用于连通所述镀膜腔(100)和所述搬运腔(200)，所述膜料承载件(1)能穿过所述真空阀门(300)，所述真空阀门(300)用于断开所述镀膜腔(100)和所述搬运腔(200)的连通。