[实用新型]一种双用陶瓷工艺摆件

权利要求书

1.一种双用陶瓷工艺摆件，其特征在于：包括陶瓷底座、摆件本体、陶瓷后盖，所述摆件本体设置于所述陶瓷底座上，所述摆件本体设有容置腔，所述容置腔设有开口，所述陶瓷后盖设置于所述开口处用于封闭所述容置腔，所述陶瓷后盖与所述摆件本体可拆卸连接，其中，所述摆件本体侧壁设有出纸口，所述容置腔呈圆柱状结构。

2.根据权利要求1所述的双用陶瓷工艺摆件，其特征在于：还包括后盖连接装置，所述后盖连接装置设置于所述陶瓷后盖与所述摆件本体之间。

3.根据权利要求2所述的双用陶瓷工艺摆件，其特征在于：所述后盖连接装置包括连接轴、固定组件，所述连接轴设置于所述陶瓷后盖上，所述固定组件设置于所述连接轴的端部与所述容置腔底部之间。

4.根据权利要求3所述的双用陶瓷工艺摆件，其特征在于：所述固定组件包括固定螺杆、固定螺母，所述连接轴的端部设有螺杆槽，所述固定螺杆固定设置于所述螺杆槽上，所述容置腔底部设有螺母槽，所述固定螺母固定设置于所述螺母槽上，所述固定螺杆与所述固定螺母旋紧连接以将所述陶瓷后盖固定在所述摆件本体上。

5.根据权利要求1所述的双用陶瓷工艺摆件，其特征在于：还包括定位装置，所述定位装置设置于所述陶瓷后盖与所述摆件本体之间。

6.根据权利要求5所述的双用陶瓷工艺摆件，其特征在于：所述定位装置包括定位环，定位环设置于所述陶瓷后盖上，所述定位环与所述容置腔相适配。

7.根据权利要求1所述的双用陶瓷工艺摆件，其特征在于：所述陶瓷后盖设有凹腔，所述凹腔内设有辅助块。

8.根据权利要求1所述的双用陶瓷工艺摆件，其特征在于：所述陶瓷底座的底部设有弧形状曲面。

9.根据权利要求1所述的双用陶瓷工艺摆件，其特征在于：所述陶瓷底座的底部设有配重腔，所述配重腔内设有配重块。

10.根据权利要求9所述的双用陶瓷工艺摆件，其特征在于：所述配重块为铁块。