[实用新型]一种药液桶推车

说明书

本实用新型提供了一种药液桶推车，所述药液桶推车包括载台、上料台、下料台、滚轮和推杆，所述载台用于放置所述药液桶，所述滚轮设置在所述载台的下方，所述上料台和所述下料台分别设置在所述载台相邻的两侧边，所述推杆设置在所述载台的一侧边且与所述上料台相对设置。本实用新型提供的药液桶推车的横向作业宽度较小，在过道空间狭小的条件下也能够完成CMP机台的上料作业，不受空间限制，且所述药液桶推车小巧灵活，结构简单，易于操作，生产成本低。

技术领域

本实用新型涉及半导体制造技术领域，特别涉及一种药液桶推车。

背景技术

半导体制造中，随着制程技术的升级，对晶圆表面的平坦程度(Non-uniformity)的要求越来越高。化学机械研磨(Chemical Mechanical Polishing，以下简称CMP)是目前机械加工中实现表面全局平坦化的主流技术，其综合了化学腐蚀作用和机械去除作用。

CMP机台主要包括研磨头、研磨盘、研磨垫、研磨头清洗装置、晶圆装卸装置以及研磨液供给装置，研磨盘上固定有研磨垫，研磨垫上放置晶圆，研磨过程中研磨头被施加一定压力，同时研磨液在研磨垫和晶圆之间流动，并与晶圆表面发生摩擦从而起到研磨的效果。在此过程中，研磨液作为一个消耗品，需要定期对CMP机台进行上料操作，以补充研磨液。

请参阅图1，现有技术中对CMP机台1进行上料时，操作者先将盛有研磨液的药液桶2放置在移动推车3，然后通过助力斜坡4正面推入CMP机台1的研磨液供给装置，然后完成更换药液桶的动作。这种固定式的助力斜坡占地面积大，适合在空间宽阔的地方使用，如果过道距离很短的情况下就无法使用了，使用局限性小，另外，在空闲状态下依旧占据地面空间，碍事绊脚，实用性低。因此，如何解决CMP机台上料操作受限于空间，不能在较小空间内完成药液桶更换工作是目前亟需解决的问题。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种药液桶推车，以解决现有技术中的缺陷和不足，本实用新型提供的药液桶推车不受空间太多的限制，使用局限小，可在空间狭小的过道使用且小巧灵活，操作简单。

为实现上述目的，本实用新型提供了一种药液桶推车，所述药液桶推车包括载台、上料台、下料台、滚轮和推杆，所述载台用于放置所述药液桶，所述滚轮设置在所述载台的下方，所述上料台和所述下料台分别设置在所述载台相邻的两侧边，所述推杆设置在所述载台的一侧边且与所述上料台相对设置。

可选的，所述上料台和所述下料台分别与所述载台可拆卸连接。

可选的，所述上料台和所述下料台可分别沿其与所述载台连接边折叠。

可选的，所述药液桶推车还包括支撑架，所述支撑架与所述推杆固定连接，用于支撑稳固所述药液桶推车。

可选的，所述支撑架为可伸缩式支撑架。

可选的，所述药液桶推车还包括护杆，所述护杆设置在所述载台的一侧边且与所述下料台相对设置。

可选的，所述上料台和所述下料台呈斜坡状。

可选的，所述载台的俯视图为正方形，且所述载台的长边长度大于等于所述药液桶的直径。

可选的，所述上料台和所述下料台的宽度与所述载台的长边长度相等。

与现有技术相比，本实用新型提供的一种药液桶推车，具有以下优点：所述药液桶推车包括载台、上料台、下料台、滚轮和推杆，所述载台用于放置所述药液桶，所述滚轮设置在所述载台的下方，所述上料台和所述下料台分别设置在所述载台相邻的两侧边，所述推杆设置在所述载台的一侧边且与所述上料台相对设置。本实用新型提供的药液桶推车的横向作业宽度较小，在过道空间狭小的条件下也能够完成CMP机台的上料作业，不受空间限制，且所述药液桶推车小巧灵活，结构简单，易于操作，生产成本低。

附图说明