[实用新型]等离子体改性辅助抛光集成设备

权利要求书

1.等离子体改性辅助抛光集成设备，其特征在于，包括

底座(1)，

竖轴(2)，设置于所述底座(1)上，

下电极(12)，能够相对所述底座(1)竖向移动，所述下电极(12)位于所述竖轴(2)一侧；

上电极(7)，位于所述下电极(12)上方，与所述竖轴(2)相连接，且所述上电极(7)能够绕所述竖轴(2)转动，所述上电极(7)与所述下电极(12)对应设置，所述下电极(12)和上电极(7)之间具有用于放置待加工件的加工区域(21)；

抛光装置(37)，所述抛光装置(37)上设置有用于待加工件表面抛光的抛光头(38)，所述抛光头(38)能够移动至所述加工区域(21)上方。

2.根据权利要求1所述的等离子体改性辅助抛光集成设备，其特征在于，所述上电极(7)的中部竖向连接有上电极轴(6)，所述上电极轴(6)上套设连接有固定件(5)，所述上电极(7)位于所述固定件(5)下方，所述固定件(5)与所述竖轴(2)相连接，所述竖轴(2)下部插入所述底座(1)内，且与所述底座(1)转动配合。

3.根据权利要求2所述的等离子体改性辅助抛光集成设备，其特征在于，所述竖轴(2)上部螺纹连接有拐角型螺纹接头(3)，所述拐角型螺纹接头(3)与所述固定件(5)通过横杆(4)螺纹连接。

4.根据权利要求2所述的等离子体改性辅助抛光集成设备，其特征在于，所述加工区域(21)外侧套设有腔壁(9)，所述上电极(7)靠近所述下电极(12)的一侧贴合有上介质(8)，所述腔壁(9)下部与所述底座(1)通过密封环(32)密封配合，所述腔壁(9)上部与上介质(8)通过密封圈(33)密封配合，所述腔壁(9)、所述底座(1)和所述上介质(8)围成用于容纳所述加工区域(21)的密封腔室。

5.根据权利要求4所述的等离子体改性辅助抛光集成设备，其特征在于，所述下电极(12)顶部设置有下介质(14)，所述上电极轴(6)的下端与上电极(7)螺纹连接。

6.根据权利要求2所述的等离子体改性辅助抛光集成设备，其特征在于，还包括驱动装置(17)和与所述驱动装置(17)的输出轴(13)一起转动连接的下电极轴(11)，所述下电极轴(11)和所述上电极轴(6)竖向对应设置，所述下电极轴(11)贯穿所述底座(1)，且能够与所述底座(1)竖向滑动配合，所述下电极(12)套设于所述下电极轴(11)上部，所述驱动装置(17)通过驱动所述下电极轴(11)自转来带动所述下电极(12)绕所述下电极轴(11)回转。

7.根据权利要求6所述的等离子体改性辅助抛光集成设备，其特征在于，还包括座体(31)，所述底座(1)和所述抛光装置(37)均设置于所述座体(31)上。

8.根据权利要求7所述的等离子体改性辅助抛光集成设备，其特征在于，所述底座(1)与所述座体(31)之间支撑连接有支撑架(15)，所述支撑架(15)上竖向滑动配合有升降平台(16)，所述支撑架(15)和升降平台(16)均设置于所述底座(1)下方，所述支撑架(15)与所述底座(1)相连接，所述驱动装置(17)设置于所述升降平台(16)上；

还包括第一限位装置(19)，所述第一限位装置(19)用于将支撑架(15)和升降平台(16)相对固定；

所述驱动装置(17)设置于所述升降平台(16)上。

9.根据权利要求7所述的等离子体改性辅助抛光集成设备，其特征在于，所述抛光装置(37)底部连接有竖向支撑轴(22)，所述抛光装置(37)能够绕所述竖向支撑轴(22)竖向转动，所述竖向支撑轴(22)支撑连接于所述座体(31)上。

10.根据权利要求1-9任意一项所述的等离子体改性辅助抛光集成设备，其特征在于，还包括圆柱销(39)，所述竖轴(2)下端径向开设有定位通孔，底座(1)的侧壁上开设有与所述定位通孔同轴设置的侧孔，所述圆柱销(39)能够依次插入所述侧孔和所述定位通孔。