[实用新型]一种新型全自动电子级化学品桶配件清洗设备

说明书

本实用新型涉及一种新型全自动电子级化学品桶配件清洗设备，包括清洗槽一、清洗槽二和气动泵，清洗槽一、清洗槽二均由清洗槽体内槽和清洗槽体外槽构成，清洗槽体外槽顶部盖设有槽盖装置，槽盖装置在气缸装置的带动下开启或盖合，气动泵的进液端通过管道连接清洗槽体外槽，气动泵的输出端通过化学品过滤装置连接清洗槽体内槽，槽盖装置和清洗槽体内槽中均布置有进液进气管道和万向喷头，进液进气管道与气动泵相连，并在气动泵的输送下通过万向喷头将清洗液均匀喷洒至清洗零配件上进行清洗；本实用新型同现有技术相比，可以满足不同尺寸规格零配件清洗需求，更大程度上考虑操作人员的安全，大大了提高工作效率和和安全性，操作可靠、方便。

[技术领域]

本实用新型涉及半导体清洗设备技术领域，具体地说是一种新型全自动电子级化学品桶配件清洗设备。

[背景技术]

随着技术创新发展，电子化学品的应用领域不断扩大，伴随国内半导体电子等产业链发展迅速，而电子化学品的应用更是涉及到了各个产业。在大规模集成电路(IC)制造中需要使用大量高纯度电子级化学品，如RCA清洗，湿式蚀刻，光刻胶等。作为化学品纯化分装以及输送更是成了重要的一环，如发生任何的污染都可能会造成无法估量的损失，因此为了不断提高化学品供应系统的稳定性和可靠性，化学品原料供应厂商已越来越重视该化学品纯化分装制程中的每一环节。

目前多数电子级化学品采用高洁净200L标准桶运输,储存。高洁净标准桶多数价格昂贵，必须重复使用。其中桶内自备的汲取管以及桶盖都需要每次打开充装，连接都可能造成污染情况，所以每次需要单独取出集中清洗。回收桶内微粒子成分复杂，污染物含量高，现有酸桶配件(汲取管及桶盖)清洗设备的微粒子控制能力弱，自动化程度低，清洗效果差，难以满足质量越来越高的高纯电子级化学品储存需求。

随着我国半导体行业的不断发展，化学品品种越来越多，国内对化学品生产流程及包装过程的要求越来越严格,精度越来越高。化学品桶桶内自备的汲取管需要每次打开连接可能造成污染情况，所以每次需要单独取出清洗。目前市面上大多采用手动清洗方式，及人工将汲取管放置在清洗盒子中晃动清洗。清洗的效果不一致，清洗溶液也无法重复利用，清洗效率差。清洗过程中也无氮气吹干装置进行吹干，污染物控制不严格。国内清洗设备配置简单导致设备内环境颗粒无法控制，无法满足高洁净度化学溶液的清洗、封装需求并具有一定的操作风险性，人力成本高，安全性不足。而随着国内半导体行业的快速发展，因此对生产效率，洁净度，安全性等也提出更高的要求。

因此，若能提供一种新型的全自动电子级化学品桶配件清洗设备以解决上述的不足，并使得操作方便，降低成本，且大大提高工作效率和安全性。

[实用新型内容]

本实用新型的目的就是要解决上述的不足而提供一种新型全自动电子级化学品桶配件清洗设备，可以满足不同尺寸规格零配件清洗需求，更大程度上考虑操作人员的安全，大大了提高工作效率和和安全性，操作可靠、方便。

为实现上述目的设计一种新型全自动电子级化学品桶配件清洗设备，包括清洗槽一8、清洗槽二13和气动泵14，所述清洗槽一8、清洗槽二13用于清洗不同的零配件,且均由清洗槽体内槽24和清洗槽体外槽25构成，所述清洗槽体外槽25装设于清洗槽体内槽24上部，所述清洗槽体外槽25顶部盖设有槽盖装置10，所述槽盖装置10与气缸装置11的活塞端相连，并在气缸装置11的带动下开启或盖合，所述气缸装置11、气动泵14的进气端均连接压缩空气管道1，所述气动泵14的进液端通过管道连接清洗槽体外槽25，所述气动泵14的输出端通过管道连接化学品过滤装置15，所述化学品过滤装置15另一端通过管道连接清洗槽体内槽24，所述清洗槽体外槽25内清洗液经过化学品过滤装置15输送回清洗槽体内槽24构成循环清洗回路，所述槽盖装置10和清洗槽体内槽24中均布置有进液进气管道20和万向喷头21，所述万向喷头21分布于进液进气管道20上，所述进液进气管道20与气动泵14相连，并在气动泵14的输送下通过万向喷头21将清洗液均匀喷洒至清洗零配件上进行清洗。