[实用新型]一种制备助剂用反应釜清洗装置

权利要求书

1.一种制备助剂用反应釜清洗装置，包括反应釜本体(1)，所述反应釜本体(1)的中心设置有搅拌轴，其特征在于：所述反应釜本体(1)底端的中部设置有圆柱腔体(14)，所述反应釜本体(1)底端的靠近外缘位置设置有环形腔体(11)，所述反应釜本体(1)侧壁对应所述环形腔体(11)的位置套接有进水接头(12)，所述环形腔体(11)与所述圆柱腔体(14)之间的壁体沿环形均匀开设有若干外进水孔(13)，所述环形腔体(11)的外缘转动套接有环形壳体(2)，所述环形壳体(2)外侧壁对应所述外进水孔(13)的位置分别开设有内进水孔(22)，所述环形壳体(2)的内侧壁固定连接有圆盘(21)，所述圆盘(21)的中心固定套接于搅拌轴的底端，所述环形壳体(2)内腔套接有环形体(3)，所述环形体(3)的顶面呈锥面形，且环形体(3)顶面的外缘低于所述内进水孔(22)，所述环形体(3)的底面与所述环形壳体(2)内腔的底面之间连接有弹簧(4)，所述环形壳体(2)的顶部贯穿所述反应釜本体(1)内腔的底面，且所述环形壳体(2)的顶面开设有若干喷射孔(23)，所述环形体(3)的顶面沿竖直方向固定连接有若干顶杆(5)，所述顶杆(5)的顶端分别对应套接于所述喷射孔(23)内。

2.根据权利要求1所述的一种制备助剂用反应釜清洗装置，其特征在于：所述圆盘(21)的外缘垂直固定连接于所述环形壳体(2)内侧壁的中部，所述圆盘(21)顶面的中心开设有与搅拌轴底端固定套接匹配的轴孔(24)。

3.根据权利要求2所述的一种制备助剂用反应釜清洗装置，其特征在于：所述弹簧(4)沿环形均匀分布于所述环形壳体(2)内腔的底部，所述弹簧(4)的底端分别垂直固定连接于所述环形壳体(2)内腔的底面上，所述弹簧(4)的顶端分别沿竖直方向固定连接于所述环形体(3)的底面上。

4.根据权利要求3所述的一种制备助剂用反应釜清洗装置，其特征在于：所述环形体(3)的截面呈直角梯形，且环形体(3)的底面为水平面。

5.根据权利要求4所述的一种制备助剂用反应釜清洗装置，其特征在于：所述喷射孔(23)的顶端分别向所述反应釜本体(1)的中轴线方向倾斜，所述喷射孔(23)轴线的延长线分别与所述反应釜本体(1)的内壁斜交。