[实用新型]一种修整器清洗装置和化学机械抛光设备

权利要求书

1.一种修整器清洗装置，其特征在于，包括：

清洗槽，用于收集流体和污染物；

至少两层清洗组件，设置在清洗槽的内侧壁，用于在修整器至少部分位于清洗槽内部后修整器与修整器清洗装置相对运动从而至少清洗修整器的侧面，其中，不同层的清洗组件处于不同高度。

2.如权利要求1所述的修整器清洗装置，其特征在于，

所述修整器清洗装置包括第一层清洗组件和第二层清洗组件，第一层清洗组件位于第二层清洗组件的上方，第一层清洗组件包括设置在清洗槽的内侧壁的第一刷洗结构和至少一个第一喷嘴，第一刷洗结构用于刷洗修整器的侧面，第一喷嘴用于在刷洗过程中提供液体和/或冲洗修整器的侧面和/或清洗第一刷洗结构。

3.如权利要求2所述的修整器清洗装置，其特征在于，所述第一刷洗结构包括多个间隔设置的第一刷体，第一喷嘴与第一刷体相对设置，第一喷嘴在清洗修整器时用于喷淋修整器的侧面并在修整器不在位时冲洗相对的第一刷体从而实现刷体的自清洁。

4.如权利要求2所述的修整器清洗装置，其特征在于，所述第一刷洗结构包括环形布置的环形刷体，第一喷嘴位于环形刷体的内部。

5.如权利要求3所述的修整器清洗装置，其特征在于，所述第一刷体或环形刷体从下往上倾斜设置，并且从下往上的倾斜方向与修整器相对于清洗槽的旋转方向相逆。

6.如权利要求2所述的修整器清洗装置，其特征在于，所述第二层清洗组件包括第二刷体，用于刷洗修整器的底面。

7.如权利要求6所述的修整器清洗装置，其特征在于，所述第二层清洗组件包括至少一个第二喷嘴，用于冲洗清洗槽的内壁、修整器的底面和/或第二刷体。

8.如权利要求2所述的修整器清洗装置，其特征在于，所述修整器清洗装置还包括第三层清洗组件，第三层清洗组件的高度在第一层清洗组件和第二层清洗组件之间，用于清洗修整器的底面和/或清洗第一刷洗结构。

9.如权利要求1所述的修整器清洗装置，其特征在于，所述修整器与修整器清洗装置的相对运动包括相对旋转运动和/或相对上下运动，由修整器和清洗槽中的至少一者在驱动下实现。

10.如权利要求2所述的修整器清洗装置，其特征在于，所述修整器清洗装置还包括第四层清洗组件，第四层清洗组件的高度位于第一层清洗组件之上，用于在清洗槽上方形成气封或液封以避免污染物溅出。

11.如权利要求1所述的修整器清洗装置，其特征在于，所述清洗槽的内底面设置为从边缘向中心向下倾斜的锥面，以利于污染物的排出；所述清洗槽的内底面中央设有排出口。

12.一种化学机械抛光设备，其特征在于，包括承载头、抛光盘、修整器和抛光液供给装置，还包括如权利要求1至11任一项所述的修整器清洗装置，所述修整器清洗装置的位置在抛光盘旁边并与修整器的移动轨迹重叠。