[实用新型]一种带有喷嘴的CVD反应器

说明书

本实用新型涉及一种带有喷嘴的CVD反应器，包括炉体、CVD反应器、传动组件、公转喷嘴组件和自转喷嘴组件，炉体的顶部固定安装有传动箱；传动组件设置在传动箱的内部，公转喷嘴组件设置在CVD反应器外侧的底部，自转喷嘴组件设置在公转喷嘴组件的两端；传动组件用于带动CVD反应器进行旋转；公转喷嘴组件带动自转喷嘴组件进行旋转。本实用新型的有益效果在于，在CVD反应设备技术领域中，通过外界的设备将原料气输送到CVD反应器中，再驱动传动组件带动CVD反应器进行旋转进行充分的混合原料气，同时利用公转喷嘴组件和自转喷嘴组件，使得原料气更加均匀的喷入炉内，大大的增加设备的实用性，提高工作效率，有利于实际的应用与操作。

技术领域

本实用新型涉及CVD反应设备技术领域，尤其涉及一种带有喷嘴的CVD反应器。

背景技术

经检索，中国专利公开了一种用于CVD反应器的喷嘴装置及CVD反应器(授权公告号CN215757598U)，该专利技术虽然能够通过喷嘴将原料气喷入炉内，喷嘴数量比较单一，无法充分均匀的将原料气喷入炉内，减少设备的实用性，降低工作效率，不利于实际的应用与操作。

实用新型内容

鉴于现有技术中存在的上述问题，本实用新型的主要目的在于提供一种带有喷嘴的CVD反应器。

本实用新型的技术方案是这样的：一种带有喷嘴的CVD反应器，包括炉体、CVD反应器、传动组件、公转喷嘴组件和自转喷嘴组件，所述炉体的顶部固定安装有传动箱；

所述传动组件设置在传动箱的内部，所述公转喷嘴组件设置在CVD反应器外侧的底部，所述自转喷嘴组件设置在公转喷嘴组件的两端；

所述传动组件用于带动CVD反应器进行旋转；所述公转喷嘴组件带动自转喷嘴组件进行旋转。

作为一种优选的实施方式，所述传动组件包括电机、第一主齿轮和第一从齿轮，所述电机固定安装在传动箱的顶部，所述电机的输出轴延伸至传动箱的内部，所述第一主齿轮固定安装在电机的输出轴上，所述CVD反应器转动连接在传动箱的顶部，所述CVD反应器的贯穿传动箱且延伸至炉体的内部，所述第一从齿轮固定安装在CVD反应器的外侧且位于传动箱的内部，所述第一主齿轮与第一从齿轮啮合连接。

作为一种优选的实施方式，所述公转喷嘴组件包括四个连接管和四个第一喷嘴，所述连接管等距安装在CVD反应器外侧的底部，所述连接管均与CVD反应器的内部相通，所述第一喷嘴均固定连接在连接管远离CVD反应器的一端，所述第一喷嘴均与连接管相通。

作为一种优选的实施方式，所述自转喷嘴组件包括套筒、第二主齿轮、两个第二从齿轮、两个转管、通气孔、两个连通盒和八个第二喷嘴，所述套筒转动连接在炉体内壁的顶部且位于CVD反应器的外侧，所述第二主齿轮固定安装在套筒的外侧，所述转管均转动连接在连接管的内部，所述通气孔均等距开设在转管的外侧且位于连接管的内部，所述转管的两端均延伸至连接管的外侧，所述第二从齿轮均固定安装在转管的顶端，所述连通盒均固定安装在转管的底端，所述连通盒均与转管相通，所述第二喷嘴等距安装在连通盒的底部，所述第二喷嘴均与连通盒的内部相通，所述第一喷嘴与第二喷嘴均用于CVD反应器。

作为一种优选的实施方式，所述CVD反应器的顶部固定安装有旋转接头，所述炉体的底部固定安装有排气管，所述排气管与炉体的内部相通，所述排气管的外侧设置有阀门。

作为一种优选的实施方式，所述炉体底部的四角均固定安装有炉腿，所述CVD反应器、电机均与外界的控制面板电性连接。

与现有技术相比，本实用新型的优点和积极效果在于：

在CVD反应设备技术领域中，通过外界的设备将原料气输送到CVD反应器中，再驱动传动组件带动CVD反应器进行旋转进行充分的混合原料气，同时利用公转喷嘴组件和自转喷嘴组件，使得原料气更加均匀的喷入炉内，大大的增加设备的实用性，提高工作效率，有利于实际的应用与操作。

附图说明