[实用新型]一种板式真空设备用工艺腔体气路系统有效
| 申请号： | 202222705612.3 | 申请日： | 2022-10-14 |
| 公开（公告）号： | CN218756025U | 公开（公告）日： | 2023-03-28 |
| 发明（设计）人： | 陆威;刘晓萌 | 申请（专利权）人： | 无锡爱尔华光电科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/44 | 分类号： | C23C16/44;C23C16/50;C23C16/455;C23C16/52 |
| 代理公司： | 无锡盛阳专利商标事务所(普通合伙) 32227 | 代理人： | 黄莹;顾吉云 |
| 地址： | 214000 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 板式 真空 备用 工艺 腔体气路 系统 | ||
【权利要求书】：
1.一种板式真空设备用工艺腔体气路系统，其包括设置在反应腔体上的主气路管道，其特征在于，其还包括：精准调整气路管道；
所述反应腔体上设置抽气管道，所述抽气管道分别连通所述主气路管道和所述精准调整气路管道的一端；
所述主气路管道和所述精准调整气路的另一端一端合并成一个气路后接入真空泵；
在所述主气路管道上，设置主开闭气阀；
在所述精准调整气路上，在所述反应腔体和所述真空泵之间设置支路开闭气阀，在所述支路开闭气阀和所述真空泵之间设置高精度调节气阀。
2.根据权利要求1所述一种板式真空设备用工艺腔体气路系统，其特征在于：所述主气路管道和所述精准调整气路管道上分别设置流量计。
3.根据权利要求1所述一种板式真空设备用工艺腔体气路系统，其特征在于：所述主气路管道和所述精准调整气路管道通过三通接头接入所述抽气管道。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
