[实用新型]等离子体监测装置和等离子体处理装置

权利要求书

1.一种等离子体监测装置，包括：

流量控制部分，包括：第一端口，从等离子体发射的发射光通过所述第一端口被引入或排出；和第二端口，从所述等离子体发射的所述发射光通过所述第二端口被排出或引入，并且所述第二端口具有与所述第一端口的形状不同的形状；

透明玻璃窗，连接到所述流量控制部分并使所述发射光穿过；以及

光谱装置，通过光纤光连接到所述透明玻璃窗，并且检测所述发射光的辐射强度。

2.根据权利要求1所述的等离子体监测装置，其中，

所述第一端口包括：第一管结构，具有第一内径；和第二管结构，连接到所述第一管结构并且具有不同于所述第一内径的第二内径，并且

所述第二端口包括：第三管结构，具有第三内径；和第四管结构，连接到所述第三管结构并且具有不同于所述第三内径的第四内径。

3.根据权利要求2所述的等离子体监测装置，其中，所述第二内径大于所述第一内径，并且所述第四内径大于所述第三内径，

其中，所述第一端口是所述发射光通过其被引入的输入端口，并且所述第二端口是所述发射光通过其被排出的输出端口，

其中，所述第一管结构在所述发射光的行进方向上的长度短于所述第三管结构在所述行进方向上的长度，并且

其中，所述第一内径和所述第三内径彼此相等，并且所述第二内径和所述第四内径彼此相等。

4.根据权利要求2所述的等离子体监测装置，其中，所述第二内径大于所述第一内径，并且所述第三内径大于所述第四内径，并且

其中，所述第二端口是所述发射光通过其被引入的输入端口，并且所述第一端口是所述发射光通过其被排出的输出端口。

5.根据权利要求2所述的等离子体监测装置，其中，

所述第一内径大于所述第二内径，并且

所述第四内径大于所述第三内径。

6.根据权利要求2所述的等离子体监测装置，其中，

所述第二内径大于所述第一内径，

所述第四内径大于所述第三内径，并且

所述第三内径大于所述第一内径。

7.根据权利要求1所述的等离子体监测装置，其中，所述第一端口包括：第一管结构，具有第一内径；和第二管结构，连接到所述第一管结构并且具有所述第一内径，并且所述第二端口包括：第三管结构，具有第三内径；和第四管结构，连接到所述第三管结构并且具有不同于所述第三内径的第四内径，并且

其中，所述第四内径大于所述第三内径。

8.根据权利要求1至7中任一项所述的等离子体监测装置，其中，所述流量控制部分进一步包括：

通道部分，包括所述发射光行进通过的空间；以及

连接部分，将所述第一端口和所述第二端口连接到所述通道部分。

9.根据权利要求1至7中任一项所述的等离子体监测装置，其中，所述光谱装置包括光学发射光谱仪。

10.一种等离子体处理装置，包括：

处理卡盘，在处理室中支撑处理对象；

喷头，面对所述处理卡盘；以及

根据权利要求1至9中任一项所述的等离子体监测装置，连接到所述处理室并且监测所述处理室中的等离子体处理工艺。