[实用新型]一种门极换流晶闸管GCT器件结构有效

专利信息
申请号: 202222845340.7 申请日: 2022-10-26
公开(公告)号: CN218730959U 公开(公告)日: 2023-03-24
发明(设计)人: 张磊;王峰瀛;范晓波;纪卫峰;张歧宁;杨俊艳;张刚琦 申请(专利权)人: 西安派瑞功率半导体变流技术股份有限公司
主分类号: H01L29/74 分类号: H01L29/74;H01L21/332
代理公司: 西安文盛专利代理有限公司 61100 代理人: 彭冬英
地址: 710077 陕*** 国省代码: 陕西;61
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摘要:
搜索关键词: 一种 换流 晶闸管 gct 器件 结构
【权利要求书】:

1.一种门极换流晶闸管GCT器件结构,其特征在于:从上往下依次设置有阴极铝层(10)和门极铝层(11)、阴极N+区(20)、门极P区(21)、P-区(22)、N-基区(30)、N缓冲区(40)、透明阳极P+区(41)和阳极铝层(50)。

2.根据权利要求1所述的一种门极换流晶闸管GCT器件结构,其特征在于:所述阴极N+区(20)深度为15~25μm,所述门极P区(21)深度为30~60μm,所述P-区(22)深度为100~140μm,所述N-基区(30)厚度为400~600μm,所述N缓冲区(40)的深度为20~40μm,所述透明阳极P+区(41)深度为1~10μm。

3.根据权利要求1所述的一种门极换流晶闸管GCT器件结构,其特征在于:所述的阴极铝层(10)和门极铝层(11)之间设有门极沟槽(200),其深度为H,且深度大于阴极N+区(20)深度,阴极N+区(20)下方分别设置了波状P区(210)和波状P-区(220),其深度都等于门极沟槽(200)深度,阴极铝层(10)厚度等于门极铝层(11)厚度。

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