[实用新型]一种还原炉的喷涂系统

说明书

本实用新型提供了一种还原炉的喷涂系统，其中，所述喷涂系统包括：支撑底座，还原炉设置于支撑底座；设置于支撑底座上的旋转机构，旋转机构位于支撑底座与还原炉围成的容置空间中；喷涂设备，包括喷枪，旋转机构设置于旋转机构上；其中，喷枪能够在旋转机构的带动下在容置空间中移动，对还原炉进行热喷涂。还原炉放置在支撑底座上，支撑底座上的旋转机构与喷涂设备连接，喷涂设备中的喷枪能够在旋转机构的带动下移动，对还原炉表面进行喷涂。解决了现有技术中还原炉径向旋转时喷涂，还原炉并非完全对称，旋转时可能出现偏心导致安全事故，而且无通风除尘结构，热喷涂时容易造成内部电子元件因高温而失效的问题。

技术领域

本实用新型涉及工业生产领域，特别涉及一种还原炉的喷涂系统。

背景技术

多晶硅在太阳能光伏产业发展过程中发挥着巨大作用，巨大的市场推动下，国内外在多晶硅生产节能技术上有很大的突破，但是在多晶硅生产过程中，气体长期处于高温反应，以及内部多重副反应会生成腐蚀性气体，易造成内表面发黑。目前，多通过热喷涂或冷喷涂在还原炉内壁制备贵金属涂层，但是现有技术中还原炉径向旋转时喷涂，还原炉并非完全对称，旋转时可能出现偏心导致安全事故，而且无通风除尘结构，热喷涂时容易造成内部电子元件因高温而失效。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种还原炉的喷涂系统，用于解决现有技术中还原炉径向旋转时喷涂，还原炉并非完全对称，旋转时可能出现偏心导致安全事故，而且无通风除尘结构，热喷涂时容易造成内部电子元件因高温而失效的问题。

为了解决上述技术问题，本实用新型实施例提供一种还原炉的喷涂系统，其中，所述喷涂系统包括：

支撑底座，所述还原炉设置于所述支撑底座；

设置于所述支撑底座上的旋转机构，所述旋转机构位于所述支撑底座与所述还原炉围成的容置空间中；

喷涂设备，包括喷枪，所述旋转机构设置于所述旋转机构上；

其中，所述喷枪能够在所述旋转机构的带动下在所述容置空间中移动，对所述还原炉进行热喷涂。

可选地，所述的喷涂系统，其中，所述旋转机构包括：

第一移动机构，所述第一移动机构设置于所述支撑底座上；

第二移动机构，所述第二移动机构设置于所述第一移动机构上，且所述喷枪设置于所述第二移动机构上；

所述喷枪在所述第一移动机构的带动下实现沿所述还原炉的轴向移动，在所述第二移动机构的带动下实现沿所述还原炉的径向移动。

可选地，所述的喷涂系统，其中，所述第一移动机构包括：

与所述支撑底座同轴线设置的固定柱；

滑动柱，套设于所述固定柱，沿固定柱的轴向滑动，且绕所述固定柱的轴线旋转；

其中，所述固定柱设置有第一中空结构，所述滑动柱设置有第二中空结构，且所述第一中空结构和所述第二中空结构相连通。

可选地，所述的喷涂系统，其中，所述第二移动机构包括：

滑块，设置于所述第一移动机构上，能够在第一移动机构上滑动；

旋转件，设置于所述滑块远离所述滑动柱的一侧，绕与所述滑块连接处转动，所述喷枪设置于所述旋转件上。

可选地，所述的喷涂系统，其中，所述喷涂设备还包括：

滑环，设置于所述第一中空结构内；

第一管路，设置于所述第一中空结构内；

第二管路，设置于所述第二中空结构内；